Engros TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Producent og leverandør

Titanium silicium

TiSi Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	TiSi
Sammensætning	Titanium silicium
Renhed	99,7 %, 99,9 %, 99,95 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktionsproces	Vakuumsmeltning, PM
Tilgængelig størrelse	L≤2000mm, B≤200mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Video

Titanium Silicon Sputtering Target Beskrivelse

En superhård nitridbelægning kan dannes, når Titanium Silicium kombineres med nitrogengas under aflejringsprocessen. Det tilstedeværende siliciumelement sikrer høj oxidationsbestandighed, mens titanium - hårdhed. Det kunne udvise fremragende slidstyrkeegenskaber selv ved meget høje temperaturer. Skæreværktøj aflejret af TiSiN-belægning er ideelt til højhastigheds- og hård fræsning, især ved tørskæring, og kan håndtere nogle superlegeringer, såsom nikkel- og titaniumbaserede legeringer.

Vores typiske TiSi-mål og deres egenskaber

	Ti-15Sipå%	Ti-20Sipå%	Ti-25Sipå%	Ti-30Sipå%
Renhed (%)	99,9	99,9	99,9	99,9
Tæthed（g/cm³）	4.4	4.35	4.3	4,25
Gregn Størrelse(µm)	200/100	100	100	100
Behandle	VAR/HIP	HOFTE	HOFTE	HOFTE

Vores virksomhed har mange års erfaring med fremstilling af sputtermål til formskærende værktøjer. Ti-15Si at%, fremstillet ved vakuumsmeltning, har homogen struktur, høj renhed og lavt gasindhold. Derudover leverer vi også Ti-15Si at%, Ti-20Si at% og Ti-25Si at% produceret ved hjælp af kraftmetallurgi. Vores TiSi-mål har fremragende mekaniske egenskaber, hvilket gør dem ufølsomme over for revner og strukturelle fejl.

Titanium Silicon Sputtering Target Emballage

Vores Titanium Silicon sputtermål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol. Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.

Få kontakt

RSM's Titanium Silicon sputtering-mål er af ultrahøj renhed og ensartet. De fås i forskellige former, renheder, størrelser og priser. Vi er specialiserede i at producere tyndfilmscoatingmaterialer med høj renhed med fremragende ydeevne samt den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i formbelægning、dekoration、autodele、low-E glas、halvleder integreret kredsløb、tynd film modstand, grafisk skærm, rumfart, magnetisk optagelse, berøringsskærm, tyndfilm solcellebatteri og anden fysisk damp deponering (PVD) applikationer. Send os venligst en forespørgsel for aktuelle priser på sputtermål og andre aflejringsmaterialer, der ikke er anført.