Engros TiAlSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet producent og leverandør

Titanium aluminium silicium

TiAlSi Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	TiAlSi
Sammensætning	Titanium aluminium silicium
Renhed	99,5 %, 99,9 %, 99,95 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktionsproces	PM
Tilgængelig størrelse	L≤2000mm, B≤200mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Titanium Aluminium Silicium Sputtering Target Beskrivelse

Titanium Aluminium Silicium sputtermål er fremstillet ved hjælp af kraftmetallurgi.
Titanium Aluminium Siliciumlegering anvendes konventionelt til fremstilling af bilmotorer. Den har fremragende egnethed til høje temperaturer og slidstyrke. Anvendelsen af Ti-Al-Si-legering kan forlænge motorkomponenternes levetid betydeligt med omkring 35 %. Hvad angår dets anvendelse i motorcykel- og bilhjul, udviser den bedre støbeevne, bearbejdelighed, træthedsmodstand og slagstyrke end A356 Aluminium.

En hurtigt størknet aluminiumslegering kunne opnås ved en hurtig størkningsproces kaldet "smeltespinding", som genererer overlegne egenskaber sammenlignet med konventionel aluminiumslegering sammen med finkornet mikrostruktur og mere fleksibilitet i legeringen. Det er et potentielt materiale i flyindustrien til at erstatte titanbasislegering brugt i 150-300 ℃.

Under aflejringsprocessen af TiAlSi-mål kunne TiAlSi/TiAlSiN dannes individuelt som et flerlag af krystallinske lag af høj kvalitet med for det meste kubiske strukturer. Disse flerlagsbelægninger har lavet disse materialer til hårde belægninger for at øge levetiden for instrumenter, der bruges til barske miljøer.

Titanium Aluminium Silicium Sputtering Target Emballage

Vores Titanium Aluminium Silicon sputtermål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol. Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.

Få kontakt

RSM's titan-aluminium-silicium-sputteringsmål er af ultrahøj renhed og ensartet. De fås i forskellige former, renheder, størrelser og priser. Vi er specialiserede i at producere tyndfilmscoatingmaterialer med høj renhed med fremragende ydeevne samt den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i formbelægning、dekoration、autodele、low-E glas、halvleder integreret kredsløb、tynd film modstand, grafisk skærm, rumfart, magnetisk optagelse, berøringsskærm, tyndfilm solcellebatteri og anden fysisk damp deponering (PVD) applikationer. Send os venligst en forespørgsel for aktuelle priser på sputtermål og andre aflejringsmaterialer, der ikke er anført.

Tidligere: TiAlV Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet

Næste: TiAl Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet