Engros TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet producent og leverandør

Tantal Niobium

TaNb Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	TaNb
Sammensætning	Tantal Niobium
Renhed	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktionsproces	Vakuumsmeltning
Tilgængelig størrelse	L≤2000mm, B≤200mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Tantal Niobium Sputtering Target Beskrivelse

Tantal Niobium sputtermål fremstilles ved hjælp af vakuumsmeltning af tantal og niobium. Disse to er sjældne metaller med højt smeltepunkt (tantal 2996 ℃, niobium 2468 ℃), højt kogepunkt (tantal 5427 ℃, niobium 5127 ℃). Tantal Niobium legering har det lignende udseende med stål, den har en sølvgrå glans (mens pulveret er mørkegrå). Det har mange gunstige egenskaber: korrosionsbestandighed, superledningsevne og høj temperaturstyrke. Så enhver applikation eller industri kunne drage fordel af at bruge tantalniobium-legeringer, såsom elektronik, glas og optik, rumfart, medicinsk udstyr, superledning og stål.

Tantal og niob har været afgørende i rumindustrien i årevis på grund af deres imponerende styrke, korrosionsbestandighed og andre attraktive egenskaber, og er blevet brugt i mange vigtige komponenter som raketmotorer og dyser.

Tantal Niobium Sputtering Target Emballage

Vores TaNb-sputtermål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol. Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.

Få kontakt

RSM's tantal-niobium-sputtermål er af ultrahøj renhed og ensartet. De fås i forskellige former, renheder, størrelser og priser. Vi er specialiserede i at producere tyndfilmscoatingmaterialer med høj renhed med fremragende ydeevne samt den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i formbelægning、dekoration、autodele、low-E glas、halvleder integreret kredsløb、tynd film modstand, grafisk skærm, rumfart, magnetisk optagelse, berøringsskærm, tyndfilm solcellebatteri og anden fysisk damp deponering (PVD) applikationer. Send os venligst en forespørgsel for aktuelle priser på sputtermål og andre aflejringsmaterialer, der ikke er anført.

Tidligere: NbTi Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet

Næste: WRe Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet