Engros NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet producent og leverandør

Nikkel vanadium

NiV Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	NiV
Sammensætning	Nikkel vanadium
Renhed	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktionsproces	Vakuumsmeltning
Tilgængelig størrelse	L≤4000mm, B≤350mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Nikkel Vanadium Sputtering Target Beskrivelse

Guld anvendes ofte i aflejringen af integreret kredsløbslag, men AuSi lavtsmeltende forbindelse dannes ofte, hvis guld kombineres med silicium, hvilket ville forårsage løshed mellem forskellige lag. Ren nikkel er et godt valg til klæbende lag, mens der også kræves et barrierelag mellem nikkel- og guldlaget for at forhindre spredning. Vanadium kunne perfekt opfylde dette krav med højt smeltepunkt og kapacitet med stående høj amperetæthed. Derfor er nikkel, vanadium og guld tre materialer, der normalt anvendes i integrerede kredsløbsindustrien. Nikkel Vanadium Sputtering Target fremstilles ved at tilføje vanadium til smeltet nikkel. Med lav ferromagnetisme er det et godt valg til magnetronforstøvning af elektroniske produkter, som kunne producere nikkellag og vanadiumlag på én gang.

Ni-7V vægt% Urenhedsindhold

Renhed	Hovedkomponent(vægt%)	Urenhedskemikalier(≤ppm）							Urenhed I alt(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99,99	7±0,5	20	30	20	100	30	100	20	100
99,95	7±0,5	200	200	200	100	100	200	50	500
99,9	7±0,5	300	300	300	100	100	200	50	500

Nikkel Vanadium Sputtering Target Emballage

Vores nikkel-vanadium-sputtermål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol. Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.

Få kontakt

RSM's nikkel-vanadium-sputtermål er af ultrahøj renhed og ensartet. De fås i forskellige former, renheder, størrelser og priser. Vi er specialiserede i at producere tyndfilmscoatingmaterialer med høj renhed med fremragende ydeevne samt den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i formbelægning、dekoration、autodele、low-E glas、halvleder integreret kredsløb、tynd film modstand, grafisk skærm, rumfart, magnetisk optagelse, berøringsskærm, tyndfilm solcellebatteri og anden fysisk damp deponering (PVD) applikationer. Send os venligst en forespørgsel for aktuelle priser på sputtermål og andre aflejringsmaterialer, der ikke er anført.

Tidligere: WCu Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet

Næste: NiCr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet