Metalforstøvningsmålmateriale, belægningslegeringsforstøvningsbelægningsmateriale, keramisk forstøvningsbelægningsmateriale, boridkeramiske sputtermålmaterialer, karbidkeramisk sputtermålmateriale, fluoridkeramisk sputtermålmateriale, Nitridkeramiske sputtermålmaterialer, oxidkeramisk mål, Selenidkeramisk sputtermålmateriale, Silicid keramisk sputtering målmaterialer, sulfid keramisk sputtering target materiale, Tellurid-keramisk sputtermål, andet keramisk mål, chrom-doteret siliciumoxid-keramisk mål (CR-SiO), indiumphosphid-mål (InP), bly-arsenid-mål (PbAs), indium-arsenid-mål (InAs).
Sputtermålmaterialer med høj renhed og høj tæthed er:
Sputtering målmateriale (renhed: 99,9%-99,999%)
1. Metalmål:
Nikkelmål, Ni, titanmål, Ti, zinkmål, Zn, chrommål, Cr, magnesiummål, Mg, Niobmål, Nb, Tinmål, Sn, aluminiummål, Al, Indiummål, In, Jernmål, Fe, Zirconium aluminium mål, ZrAl, Titanium aluminium mål, TiAl, Zirconium mål, Zr, aluminium-silicium mål, AlSi, silicium mål, Si, kobbermål Cu, tantalmål T, A, Germaniummål, Ge, sølvmål, Ag, koboltmål, Co, guldmål, Au, gadoliniummål, Gd, lanthanmål, La, yttriummål, Y, ceriummål, Ce, wolframmål, W, mål i rustfrit stål, nikkel-chrommål, NiCr, hafniummål, Hf, molybdænmål, Mo, Fe-Ni target, FeNi, wolfram target, W osv.
2. Keramisk målmateriale
ITO-målmål, jernoxid, magnesiumoxid-mål, mål, mål, siliciumcarbid siliciumnitrid-titaniumnitrid-målmål, mål, zinksulfid, zinkoxid, chromoxid, siliciumdioxid, mål, mål, mål for et siliciumoxid, ceriumoxidmål, mål, fem zirconiumdioxid oxygen HuaEr niobium målmål, mål, titanium dioxid, zirconiumdioxid, hafniummål, mål, titandiboriddiborid-zirconiummål, wolframtrioxidmål, Aluminiumtrioxidmål, tantalpentaoxid, niobiumpentaoxidmål, magnesiumfluoridmål, yttriumfluoridmål, zinkselenidmål, aluminiumnitridmål, aluminiumnitridmål, bornitridmål, titaniumnitrid mål, siliciumcarbidmål, lithiumniobatmål, praseodymiumtitanatmål, bariumtitanatmål, lanthantitanatmål, nikkeloxidmål, sputtermål osv.
Indlægstid: Aug-05-2022