Niobium-målmaterialer bruges hovedsageligt i optisk belægning, overfladeteknisk materialebelægning og belægningsindustrier såsom varmebestandighed, korrosionsbestandighed og høj ledningsevne. Inden for optisk belægning anvendes det hovedsageligt i oftalmiske optiske produkter, linser, præcisionsoptik, storarealbelægning, 3D-belægning og andre aspekter.
Niobium-målmaterialet kaldes normalt et blottet mål. Det svejses først til kobberbagmålet og forstøvs derefter for at afsætte niobiumatomer i form af oxider på substratmaterialet, hvilket opnår sputtering. Med den kontinuerlige uddybning og udvidelse af niobiummålteknologi og anvendelse er kravene til ensartetheden af niobiummålmikrostruktur steget, hovedsageligt manifesteret i tre aspekter: kornstørrelsesforfining, ingen tydelig teksturorientering og forbedret kemisk renhed.
Den ensartede fordeling af mikrostruktur og egenskaber gennem målet er afgørende for at sikre sputterydeevnen af niobiummålmaterialer. Overfladen af niobium-mål, der stødes på i industriel produktion, udviser sædvanligvis regelmæssige mønstre, som i høj grad påvirker målenes sputterydeevne. Hvordan kan vi forbedre udnyttelsesgraden af målene?
Gennem forskning har det vist sig, at indholdet af urenheder (målrenhed) er en vigtig faktor, der påvirker renheden. Den kemiske sammensætning af råvarerne er ujævn, og urenheder beriges. Efter senere valsebehandling dannes der regelmæssige mønstre på overfladen af niob-målmaterialet; Eliminering af ujævn fordeling af råmaterialekomponenter og berigelse af urenheder kan undgå dannelsen af regelmæssige mønstre på overfladen af niob-mål. Påvirkningen af kornstørrelse og strukturel sammensætning på målmaterialet kan være næsten ubetydelig.
Indlægstid: 19-jun-2023