Hovedegenskaber ved sputtering af målmateriale

Vi skal være meget fortrolige med målet nu, nu er målmarkedet også stigende, det følgende er, hvad der er den vigtigste præstation af sputtermål, der deles af redaktør fra RSM

　　Renheden

Målmaterialets renhed er et af de vigtigste præstationsindekser, fordi målmaterialets renhed har stor indflydelse på ydeevnen af ​​tynd film. Men i praktisk anvendelse er renhedskravene for målmaterialer ikke de samme. For eksempel, med den hurtige udvikling af mikroelektronikindustrien, er siliciumchipstørrelsen blevet udviklet fra 6", 8" til 12", og ledningsbredden er blevet reduceret fra 0,5um til 0,25um, 0,18um eller endda 0,13um. Tidligere kunne renheden af ​​99,995% målmateriale opfylde proceskravene på 0,35umIC. Målmaterialets renhed er 99,999 % eller endda 99,9999 % til fremstilling af 0,18 um linjer.

　　Urenhedsindhold

Urenhederne i målfaststoffet og ilten og vanddampen i porerne er de vigtigste forureningskilder til filmaflejring. Målmaterialer til forskellige formål har forskellige krav til forskelligt urenhedsindhold. For eksempel har rene aluminiums- og aluminiumslegeringsmål, der anvendes i halvlederindustrien, særlige krav til indholdet af alkalimetaller og radioaktive grundstoffer.

　　Tætheden

For at reducere porøsiteten i målfaststoffet og forbedre ydeevnen af ​​sputterfilmen kræves der sædvanligvis høj densitet af målet. Densiteten af ​​målet påvirker ikke kun sputterhastigheden, men også filmens elektriske og optiske egenskaber. Jo højere måltæthed, jo bedre filmydelse. Derudover gør en forøgelse af tætheden og styrken af ​​målet, at målet bedre modstår den termiske belastning i sputteringsprocessen. Tæthed er også et af de vigtigste præstationsindekser for målet.

　　Kornstørrelse og kornstørrelsesfordeling

Målet er normalt polykrystallinsk med kornstørrelser fra mikrometer til millimeter. For det samme mål er forstøvningshastigheden for målet med små korn hurtigere end målet med store korn. Tykkelsesfordelingen af ​​filmene, der afsættes ved sputtermål med mindre kornstørrelsesforskel (ensartet fordeling) er mere ensartet.