Rich specielle materialer Co.,Ltd. leverer høj renhed Zirconium Sputtering Targets med den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i halvleder-, kemisk dampaflejring (CVD) og fysisk dampaflejring (PVD) display og optiske applikationer. Vores standard sputtermål til tyndfilm er tilgængelige monoblok eller bundet med plane måldimensioner og konfigurationer op til 820 mm med hulboringsplaceringer og gevindskæring, affasning, riller og bagside designet til at fungere med både ældre sputteranordninger såvel som det nyeste procesudstyr, såsom belægning med stort areal til solenergi eller brændselsceller og flip-chip applikationer. Der produceres også mål i forskningsstørrelse såvel som brugerdefinerede størrelser og legeringer. Alle mål analyseres ved hjælp af bedst demonstrerede teknikker, herunder røntgenfluorescens (XRF).
Indlægstid: maj-03-2023