Engros MoCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Producent og leverandør

Molybdæn kobber

MoCu Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	MoCu
Sammensætning	Molybdæn kobber
Renhed	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktionsproces	PM
Tilgængelig størrelse	L≤200 mm, B≤200 mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Molybdæn Kobberforstøvningsmål fremstilles ved hjælp af infiltrationssintring: Molybdænpulver sintret og formet til halvfabrikata, kombineret med en efterfølgende mikrobølgeassisteret vandig opløsningsstrategi. Molybdæn Kobberlegering har enestående fysiske og mekaniske egenskaber: tilfredsstillende elektrisk og termisk ledningsevne, lav og justerbar termisk udvidelseskoefficient, slidstyrke og høj temperaturstyrke.

Sammensætninger (%)	Cu	Mo	Urenhed (%)
MoCu10	10±2	Balance	≤0,1
MoCu15	15±3	Balance	≤0,1
MoCu20	20±3	Balance	≤0,1
MoCu25	25±3	Balance	≤0,1
MoCu40	40±5	Balance	≤0,1

Rich Special Materials har specialiseret sig i fremstilling af sputtering Target og kunne producere molybdæn kobber sputtering materialer i henhold til kundernes specifikationer. For mere information, kontakt os venligst.

Tidligere: MoNi Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet

Næste: NbTi Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet