FeTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet
Jerntantal
Jern Tantal Sputtering Target Beskrivelse
Jern Tantal legering er et egnet materiale til fordampningskilder, elektronrør, proteseanordninger og ensrettere. Vi anvender avanceret teknik til støbning og hurtig størkning for at opnå Fe-Ta-legering med høj renhed og homogen struktur. Det mål, vi producerer, har fremragende mekaniske egenskaber og kan producere raffinerede overfladelag.
Jern Tantal Sputtering Target Emballage
Vores jerntantalsputtermål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol. Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.
Få kontakt
RSM's jerntantal-sputtermål er af ultrahøj renhed og ensartet. De fås i forskellige former, renheder, størrelser og priser.
Vi kunne levere en række geometriske former: rør, bue katoder, plane eller specialfremstillede. Vores produkter har fremragende mekaniske egenskaber, homogen mikrostruktur, poleret overflade uden adskillelse, porer eller revner.
Vi er specialiserede i at producere tyndfilmscoatingmaterialer med høj renhed med fremragende ydeevne samt den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i formbelægning、dekoration、autodele、low-E glas、halvleder integreret kredsløb、tynd film modstand, grafisk skærm, rumfart, magnetisk optagelse, berøringsskærm, tyndfilm solcellebatteri og anden fysisk damp deponering (PVD) applikationer. Send os venligst en forespørgsel for aktuelle priser på sputtermål og andre aflejringsmaterialer, der ikke er anført.
Produktkategorier
-
FeV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd...
-
FeCr Sputtering Target High Purity Thin Film Pv...
-
FeMn Sputtering Target High Purity Thin Film Pv...
-
FeSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pv...
-
FeCoTa Sputtering Target, tynd film med høj renhed ...
-
Få Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd...