Gyda'r cynnydd yn y galw yn y farchnad, mae mwy a mwy o fathau o dargedau sputtering yn cael eu diweddaru'n gyson. Mae rhai yn gyfarwydd a rhai yn anghyfarwydd i gwsmeriaid. Nawr, hoffem rannu gyda chi beth yw'r mathau o dargedau sputtering magnetron.
Mae targed sputtering yn cael y mathau canlynol: targed cotio sputtering metel, targed cotio sputtering aloi, targed cotio sputtering ceramig, targed sputtering ceramig boride, targed sputtering ceramig carbid, targed sputtering ceramig fflworid, targed sputtering seramig nitride, targed sputtering ceramig ocsid, targed sputtering ceramig selenid , targed sputtering ceramig silicid, targed sputtering ceramig sulfide, targed sputtering ceramig telluride, targedau ceramig eraill, cromiwm doped silicon targed ceramig ocsid (CR SiO), targed indium phosphide (INP), targed arsenide plwm (pbas), targed indium arsenide (InAs).
Yn gyffredinol, rhennir sputtering Magnetron yn ddau fath: sputtering DC a sputtering RF. Mae egwyddor offer sputtering DC yn syml, ac mae ei gyfradd hefyd yn gyflym wrth sputtering metel. Defnyddir RF sputtering yn eang. Yn ogystal â sputtering data dargludol, gall hefyd sputter data nad yw'n dargludol. Ar yr un pryd, mae'r targed sputtering hefyd yn cynnal sputtering adweithiol i baratoi data cyfansawdd megis ocsidau, nitridau a carbidau. Os bydd yr amledd RF yn cynyddu, bydd yn dod yn sbuttering plasma microdon. Ar hyn o bryd, defnyddir sbuttering plasma microdon cyseiniant electron cyclotron (ECR) yn gyffredin.
Amser postio: Mai-18-2022