Targed Yttrium Purdeb Uchel - Aelod Pwysig o Gorchudd PVD

Beth yw targed sputtering yttrium?
Mae targed Yttrium yn cael ei gynhyrchu'n bennaf gan yr elfen fetel targed sputtering yttrium, oherwydd bod elfen yttrium (Y) yn un o'r elfennau metel daear prin, felly mae targed yttrium hefyd yn cael ei adnabod fel targed daear prin.
Defnyddir targedau Yttrium yn bennaf mewn technoleg dyddodiad sputtering. Mae technoleg dyddodiad sputtering yn un o'r technolegau dyddodiad anwedd corfforol (PVD), ac mae'n un o'r prif dechnolegau ar gyfer paratoi deunyddiau ffilm tenau electronig. Trwy beledu wyneb y targed â gronynnau ynni uchel (fel ïonau neu drawstiau electron), mae'r atomau targed neu'r moleciwlau yn cael eu gwasgaru a'u hadneuo ar swbstrad arall i ffurfio'r ffilm neu'r cotio a ddymunir.
Yn syml, y targed yttrium yw deunydd ffynhonnell y ffilm neu'r cotio a ddymunir a baratowyd gan y dechnoleg PVD.

Beth ywyrtarged sputtering yttrium a ddefnyddir ar gyfer?

Mae gan dargedau Yttrium ystod eang o gymwysiadau mewn sawl maes, y canlynol yw'r prif feysydd cais:

1. Deunyddiau lled-ddargludyddion: Yn y diwydiant lled-ddargludyddion, defnyddir targedau yttrium i gynhyrchu haenau penodol mewn deunyddiau lled-ddargludyddion neu gydrannau electronig, megis transistorau, cylchedau integredig, ac ati.
2. Cotio optegol: Ym maes opteg, gellir defnyddio targedau yttrium i baratoi haenau optegol gyda mynegai plygiant uchel a chyfradd gwasgariad isel, sy'n chwarae rhan bwysig wrth gynhyrchu dyfeisiau optegol megis laserau a hidlwyr optegol.
3. Dyddodiad ffilm tenau: Mae targed yttrium mewn sefyllfa bwysig mewn technoleg dyddodiad ffilm tenau, ac mae ei burdeb uchel, sefydlogrwydd da, a phriodweddau ffisegol a chemegol penodol yn ei gwneud yn ddewis delfrydol ar gyfer paratoi amrywiaeth o ddeunyddiau ffilm tenau. Mae gan y deunyddiau ffilm tenau hyn ystod eang o gymwysiadau mewn meysydd optegol, electronig, magnetig a meysydd eraill.
4. Maes meddygol: mae gan dargedau yttrium gymwysiadau pwysig mewn meddygaeth ymbelydredd, megis ffynhonnell pelydrau-X a phelydrau gama, delweddu diagnostig (fel sganiau CT), a therapi ymbelydredd. Yn ogystal, gellir defnyddio isotopau penodol o yttrium (fel Y-90) hefyd mewn radiofferyllol ar gyfer trin canserau penodol wedi'u targedu.
5. Diwydiant ynni niwclear: Mewn adweithyddion niwclear, defnyddir targedau yttrium fel deunyddiau lifer ar gyfer rheoli cyflymder a sefydlogrwydd adweithiau niwclear oherwydd eu gallu amsugno niwtronau rhagorol.

Sylwer: Gan y gall gofynion perfformiad targedau yttrium mewn gwahanol feysydd cais fod yn wahanol, mae angen dewis y targed priodol yn ôl y sefyllfa wirioneddol yn y cais penodol. (Fel purdeb penodol, cymhareb cyfansoddiad, maint, siâp, ac ati, wedi'i addasu yn unol â gofynion penodol.)

Technoleg cynhyrchu targedau yttrium sputtering?

1. Paratoi yttrium powdr 2. HIP, gwasgu molding 3. High- tymheredd sintering 4.Subsequent prosesu (Torri, sgleinio, ac ati) 5. Glanhau a phacio

Nodyn: Yn ogystal â'r camau sylfaenol uchod, yn ôl y dull paratoi penodol ac anghenion y cais, gall targedau sputtering yttrium hefyd gynnwys camau a thechnolegau eraill, megis y dull sputtering, dull toddi gwactod, ac ati. Mae'r dulliau hyn yn helpu i addasu a gwneud y gorau o'r perfformiad a strwythur y deunydd targed.

Sut i ddewis targed sputtering o ansawdd uchel?

Mae'r canlynol yn rhestru'r 7 ffactor pwysig ar gyfer dewis targedau sputtering o ansawdd uchel:

1.High purdeb

Mae gan dargedau purdeb uchel briodweddau materol gwell a phriodweddau ffisegol a chemegol mwy sefydlog, sy'n hanfodol i sicrhau ansawdd a pherfformiad haenau chwistrellu. Dylid pennu gofynion purdeb penodol yn ôl senario'r cais, nid oes angen i rai senarios cais syml fynd ar drywydd purdeb uwch-uchel, er mwyn peidio â chynyddu costau diangen. Yr hyn sy'n addas i chi yw'r gorau.

2.Sefydlogrwydd

Mae sefydlogrwydd y targed yr un mor bwysig, a all osgoi colli deunydd neu amrywiadau perfformiad yn ystod sputtering. Felly, yn y dewis, mae un yn dewis y driniaeth arbennig honno neu gael sefydlogrwydd da y cynnyrch.

3.Size a siâp

Dylid dewis maint a siâp y targed sputtering yn unol â gofynion penodol yr offer cotio i addasu i wahanol brosesau sputtering ac anghenion cynhyrchu. Mae sicrhau bod y targed yn cyfateb i'r offer yn cynyddu effeithlonrwydd sbuttering ac yn lleihau gwastraff.

4.Dwysedd

Dwysedd yw un o'r dangosyddion pwysig i fesur ansawdd y deunydd targed. Gall deunydd targed dwysedd uchel sicrhau effaith sputtering well. Wrth ddewis, dylech roi sylw i ddata dwysedd y targed, a cheisio dewis cynhyrchion â dwysedd uwch.

Cywirdeb 5.Processing

Mae cywirdeb prosesu'r targed hefyd yn un o'r ffactorau y mae angen eu hystyried. Yn gyffredinol, mae'n ofynnol i gywirdeb prosesu'r targed fod o fewn ± 0.1mm i sicrhau sefydlogrwydd y broses sputtering ac unffurfiaeth ansawdd y cotio.

6.Gofynion arbennig

Ar gyfer rhai senarios cais arbennig, megis yr angen am drosglwyddiad golau uchel, amsugno isel o'r targed (cotio optegol) neu ddargludedd uchel, sefydlogrwydd uchel y targed (maes electronig), dylid eu dewis yn unol ag anghenion penodol y targed cyfatebol math.

7.Dewiswch wneuthurwr neu gyflenwr proffesiynol.