Gwyddom oll mai sputtering yw un o'r prif dechnolegau ar gyfer paratoi deunyddiau ffilm. Mae'n defnyddio'r ïonau a gynhyrchir gan y ffynhonnell ïon i gyflymu'r agregu mewn gwactod i ffurfio trawst ïon cyflym, peledu'r wyneb solet, ac mae'r ïonau'n cyfnewid egni cinetig â'r atomau ar yr arwyneb solet, fel bod yr atomau ar y solet. wyneb gadael y solet a blaendal ar wyneb y swbstrad. Y solet wedi'i beledu yw'r deunydd crai ar gyfer adneuo ffilm trwy sputtering, a elwir yn sputtering target.
Mae gwahanol fathau o ddeunyddiau ffilm sputtered wedi'u defnyddio'n helaeth mewn cylchedau integredig lled-ddargludyddion, cyfryngau recordio, arddangosiad planar, cotio arwyneb offer a marw ac yn y blaen.
Defnyddir targedau sputtering yn bennaf mewn diwydiannau electronig a gwybodaeth, megis cylchedau integredig, storio gwybodaeth, arddangosfeydd crisial hylif, atgofion laser, offer rheoli electronig, ac ati; Gellir ei ddefnyddio hefyd ym maes cotio gwydr; Gellir ei ddefnyddio hefyd mewn deunyddiau sy'n gwrthsefyll traul, ymwrthedd cyrydiad tymheredd uchel, cynhyrchion addurnol pen uchel a diwydiannau eraill.
Mae yna lawer o fathau o dargedau sbuttering, ac mae yna wahanol ddulliau ar gyfer dosbarthu targedau:
Yn ôl y cyfansoddiad, gellir ei rannu'n darged metel, targed aloi a tharged cyfansawdd ceramig.
Yn ôl y siâp, gellir ei rannu'n darged hir, targed sgwâr a tharged crwn.
Gellir ei rannu'n darged microelectroneg, targed recordio magnetig, targed disg optegol, targed metel gwerthfawr, targed gwrthiant ffilm, targed ffilm dargludol, targed addasu wyneb, targed mwgwd, targed haen addurniadol, targed electrod a thargedau eraill yn ôl maes y cais.
Yn ôl gwahanol gymwysiadau, gellir ei rannu'n dargedau cerameg cysylltiedig â lled-ddargludyddion, gan gofnodi targedau cerameg canolig, arddangos targedau ceramig, targedau cerameg superconducting a thargedau cerameg magnetoresistance enfawr.
Amser postio: Gorff-29-2022