Defnyddir deunydd targed alwminiwm ocsid, deunydd sy'n cynnwys alwminiwm ocsid purdeb uchel yn bennaf (Al2O3), mewn amrywiol dechnolegau paratoi ffilmiau tenau, megis sputtering magnetron, anweddiad trawst electron, ac ati. Alwminiwm ocsid, fel deunydd caled a chemegol sefydlog, gall ei ddeunydd targed ddarparu ffynhonnell sputtering sefydlog yn ystod y broses baratoi ffilm denau, gan gynhyrchu deunyddiau ffilm tenau gyda phriodweddau ffisegol a chemegol rhagorol. Fe'i defnyddir yn eang mewn lled-ddargludyddion, optoelectroneg, addurno ac amddiffyn, ac ati.
Ei brif feysydd cais
Cymwysiadau Gweithgynhyrchu Cylched Integredig: Defnyddir targedau alwminiwm ocsid yn y broses weithgynhyrchu o gylchedau integredig i ffurfio haenau inswleiddio a dielectrig o ansawdd uchel, gan wella perfformiad a dibynadwyedd cylchedau.
Cymhwyso Dyfeisiau Optoelectroneg: Mewn dyfeisiau optoelectroneg megis LEDs a modiwlau ffotofoltäig, defnyddir targedau alwminiwm ocsid i baratoi ffilmiau dargludol tryloyw a haenau gwrth-adlewyrchol, gan wella effeithlonrwydd trosi ffotodrydanol y dyfeisiau.
Cymhwysiad cotio amddiffynnol: Defnyddir ffilm denau a baratowyd o dargedau alwminiwm ocsid ar gydrannau mewn diwydiannau megis awyrennau a modurol i ddarparu haen amddiffynnol sy'n gwrthsefyll traul ac sy'n gwrthsefyll cyrydiad.
Cais cotio addurniadol: Ym meysydd dodrefn, deunyddiau adeiladu, ac ati, defnyddir ffilm alwminiwm ocsid fel cotio addurniadol i ddarparu estheteg wrth amddiffyn y swbstrad rhag erydiad amgylcheddol allanol.
Cymwysiadau awyrofod: Yn y maes awyrofod, defnyddir targedau alwminiwm ocsid i baratoi haenau amddiffynnol sy'n gwrthsefyll tymheredd uchel a phwysau uchel, gan amddiffyn cydrannau hanfodol rhag gweithrediad sefydlog mewn amgylcheddau arbennig.
Amser postio: Mehefin-27-2024