CrSi Alloy Sputtering Targed Purdeb Uchel Thin Ffilm Gorchudd Pvd Custom Wedi'i Wneud

Mae llunio Targedau Sputtering Chronium Silicon yn cynnwys y camau canlynol:
1.Vacuum toddi o Silicon a Chronium i gael aloion cam.
2.Powder malu, pacio a gwacáu.
Triniaeth gwasgu isostatig 3.Hot i gael cynhyrchion lled-orffen.
4.Machining y garw aloi cromiwm-silicon sputtering deunydd targed i gael y cromiwm-silicon aloi sputtering deunydd targed.

Defnyddir CrSi yn aml fel y deunydd ffilm ymwrthedd uchel, mae'n cynnwys y gwrthiant uchel, sefydlogrwydd a cyfernod gwrthiant tymheredd isel. Gallai Chronium a Silicon gynhyrchu llawer o gyfnodau silicid fel Cr3Si , Cr5Si3 , , CrSi , CrSi2 . Mae proses gynhyrchu, cyfansoddiad a phroses trin gwres y ffilm CrSi yn effeithio'n fawr ar ei berfformiad.

Mae Rich Special Materials yn arbenigo mewn Gweithgynhyrchu Targed Sputtering a gallai gynhyrchu Deunyddiau Sputtering Chronium Silicon yn unol â manylebau Cwsmeriaid. Am fwy o wybodaeth, cysylltwch â ni.