Cyfanwerthu Cral Alloy Sputtering Targed Purdeb Uchel Thin Ffilm Gorchuddio PVD Custom Made Gwneuthurwr a Chyflenwr

Alwminiwm Cromiwm

Cral Alloy Sputtering Targed Purdeb Uchel Thin Ffilm Gorchuddio PVD Custom Made Delwedd Sylw

Disgrifiad Byr:

Categori	Targed Sputtering Alloy
Fformiwla Cemegol	crAl
Cyfansoddiad	Alwminiwm Cromiwm
Purdeb	99.7%, 99.9%, 99.95%, 99.99%
Siâp	Platiau, Targedau Colofn, cathodau arc, Wedi'u gwneud yn arbennig
Proses Gynhyrchu	Toddi gwactod, PM
Maint Ar Gael	L≤2000mm, W≤200mm

Anfonwch e-bost atom

Manylion Cynnyrch

Tagiau Cynnyrch

Mae llunio Targedau Sputtering Alwminiwm Cromiwm yn cynnwys y camau canlynol:

1. malu powdr a chymysgu.

2. Triniaeth wasgu isostatig poeth i gael cynhyrchion lled-orffen.

3. Peiriannu y garw aloi alwminiwm cromiwm sputtering deunydd targed i gael y deunydd targed sputtering aloi alwminiwm cromiwm.

Yn ystod y broses dyddodi o dargedau sputtering CRAl, mae gorchudd caled Alwminiwm-Chrom-Nitrid (AlCrN) yn cael ei ffurfio. Mae'r cotio hwn yn dangos priodweddau caledwch uchel ac ymwrthedd ocsideiddio hyd yn oed ar dymheredd uchel. Gallai'r torwyr redeg ar borthiant uchel i gynyddu cynhyrchiant a chodi ansawdd wrth ddefnyddio peiriannau CNC.

Ein targedau AlCr nodweddiadol a'u priodweddau

	Cr-70Alar %	Cr-60Alar %	Cr-50Alar %
Purdeb (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
Dwysedd（g/cm³）	3.7	4.35	4.55
Gglaw Maint(µm)	100/50	100/50	100/50
Proses	HIP	HIP	HIP

Mae Rich Special Materials yn arbenigo mewn Gweithgynhyrchu Targed Sputtering a gallai gynhyrchu Deunyddiau Sputtering Cromiwm Alwminiwm yn unol â manylebau Cwsmeriaid. Mae ein cynnyrch yn cynnwys priodweddau mecanyddol rhagorol, strwythur homogenaidd, arwyneb caboledig heb unrhyw wahanu, mandyllau na chraciau. Am fwy o wybodaeth, cysylltwch â ni.

Pâr o: CoFe Alloy Sputtering Targed Purdeb Uchel Thin Ffilm Gorchudd Pvd Custom Made

Nesaf: AlSi Alloy Sputtering Targed Purdeb Uchel Thin Ffilm Gorchudd PVD Custom Made