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TiTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Titanium Tantalum

Descrizione breve:

categuria

Alloy Sputtering Target

Formula chimica

TiTa

Cumpusizioni

Titanium Tantalum

Purità

99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made

Prucessu di pruduzzione

Fusione à vacuum, PM

Taglia dispunibule

L≤200mm,W≤200mm


Detail di u produttu

Tags di u produttu

Titanium Tantalum sputtering target hè fabricatu per mezu di fusione è casting. A lega Ti-Ta hè un materiale criticu per u cumpunente di u dispositivu di eliminazione di rifiuti nucleari. Hè ancu una pruprietà meccanica superiore, chì hè a prima cunsiderazione in u so usu cum'è materiali di implanti ortopedici. Inoltre, u rivestimentu TiTaN hè ampiamente utilizatu in l'industria di l'attrezzi di taglio di muffa per a so eccellente resistenza à l'usura è à a corrosione.

Rich Special Materials hè un Produttore di Sputtering Target è puderia pruduce Titanium Tantalum Sputtering Materials secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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