Wholesale TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer and Supplier

Titanium Silicon

TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Descrizione breve:

categuria	Alloy Sputtering Target
Formula chimica	TiSi
Cumpusizioni	Titanium Silicon
Purità	99,7%，99,9%，99,95%
Forma	Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made
Prucessu di pruduzzione	Fusione à vacuum, PM
Taglia dispunibule	L≤2000mm,W≤200mm

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Titanium Silicon Sputtering Target Description

Un revestimentu di Nitruru super-duru puderia esse furmatu quandu Titanium Silicone cumminatu cù gasu Nitrogenu durante u prucessu di deposizione. L'elementu di Silicone presente assicura un cumpurtamentu di resistenza à l'ossidazione elevata, mentri Titanium - durezza. Puderia mostra una proprietà di resistenza à l'usura eccellente ancu à temperature altamente elevate. L'arnesi di taglio depositati da u rivestimentu TiSiN sò ideali per a fresatura à alta velocità è dura, soprattuttu in u tagliu seccu, è puderanu trattà cù alcune super aleaghji, cum'è leghe di basa di nichel è titaniu.

I nostri target tipici TiSi è e so proprietà

	Ti-15Sià%	Ti-20Sià%	Ti-25Sià%	Ti-30Sià%
Purezza (%)	99.9	99.9	99.9	99.9
Densità(g/cm).³）	4.4	4.35	4.3	4.25
Gpiova Taglia(µm)	200/100	100	100	100
Prucessu	VAR/HIP	HIP	HIP	HIP

A nostra sucetà hà parechji anni di sperienza in a fabricazione di obiettivi di sputtering per strumenti di taglio di muffa. Ti-15Si at%, fabbricatu da fusione in vacuum, hà una struttura homogeneia, alta purezza è pocu cuntenutu di gas. Inoltre, furnimu ancu Ti-15Si at% 、Ti-20Si at% è Ti-25Si at% pruduciutu per mezu di metallurgia di energia. I nostri obiettivi in TiSi anu eccellenti proprietà meccaniche, rendenduli insensibili à cracking è fallimentu strutturale.

Imballaggio di destinazione di sputtering di siliciu di titaniu

U nostru scopu di sputter Titanium Silicon hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità. Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.

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L'obiettivi di sputtering Titanium Silicon di RSM sò di purezza ultra-alta è uniformi. Sò dispunibuli in diverse forme, purità, dimensioni è prezzi. Semu spicializati in a produzzione di materiali di rivestimentu di film sottile d'alta purezza cù prestazioni eccellenti è ancu a più alta densità pussibule è a più piccula dimensione di granu mediu pussibule per l'usu in u revestimentu di stampi, a decorazione, a parti di l'automobile, u vetru low-E, u circuitu integratu semi-conduttore, u film sottile. resistenza, visualizazione grafica, aerospaziale, registrazione magnetica, schermu tattile, batteria solare di film sottile è altri vapori fisichi applicazioni di deposizione (PVD). Per piacè mandateci una dumanda per i prezzi attuali nantu à i miri di sputtering è altri materiali di deposizione micca listati.