TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Titanium Aluminium
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Titanium Aluminium Sputtering Target Description
U requisitu di a qualità di destinazione per u revestimentu sputter hè più altu ch'è quellu di l'industria di i materiali tradiziunali. A microstruttura uniforme di u mira influenza direttamente u rendiment di sputtering. Avemu un sistema di gestione di a qualità cumpletu è selezziunà materie prime di alta purezza è li mischianu accuratamente per assicurà l'omogeneità. L'obiettivu di sputtering in lega d'aluminiu di titaniu hè pruduttu per mezu di u metudu di pressa calda à vacuum.
I nostri obiettivi di sputtering di Titanium Aluminium puderanu furnisce un eccezziunale revestimentu di nitruru resistente à l'ossidazione, nitruru di Titanium Aluminium (TiAlN). TiAlN hè l'attuale mainstream cum'è film per strumenti di taglio, parti scorrevule è tribo-coatings. Havi una alta durezza, tenacità, prestazioni resistenti à l'usura è temperatura d'ossidazione.
I nostri target tipici TiAl è e so proprietà
Ti-75Al à% | Ti-70Al à% | Ti-67Al à% | Ti-60Al à% | Ti-50Al à% | Ti-30Al à% | Ti-20Al à% | Ti-14Al à% | |
Purezza (%) | 99,7 | 99,7 | 99,7 | 99,7 | 99,8/99.9 | 99.9 | 99.9 | 99.9 |
Densità(g/cm3) | 3.1 | 3.2 | 3.3 | 3.4 | 3,63/3,85 | 3,97 | 4.25 | 4.3 |
Gpiova Taglia(µm) | 100 | 100 | 100 | 100 | 100/- | - | - | - |
Prucessu | HIP | HIP | HIP | HIP | HIP/VAR | VAR | VAR | VAR |
Imballaggio di destinazione di sputtering d'aluminiu di titaniu
U nostru scopu di sputter Titanium Aluminium hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità. Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.
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L'obiettivi di sputtering in Titanium Aluminium di RSM sò di ultra-alta purezza è uniformi. Sò dispunibuli in diverse forme, purità, dimensioni è prezzi.
Pudemu furnisce una varietà di forme geometriche: tubi, catodi d'arcu, planari o su misura, è una larga gamma di proporzioni di Alluminiu. I nostri prudutti presentanu eccellenti proprietà meccaniche, microstruttura omogenea, superficia pulita senza segregazione, pori o crepe.
Semu spicializati in a produzzione di materiali di rivestimentu di film sottile d'alta purezza cù prestazioni eccellenti è ancu a più alta densità pussibule è a più piccula dimensione di granu mediu pussibule per l'usu in u revestimentu di stampi, a decorazione, a parti di l'automobile, u vetru low-E, u circuitu integratu semi-conduttore, u film sottile. resistenza, visualizazione grafica, aerospaziale, registrazione magnetica, schermu tattile, batteria solare di film sottile è altri vapori fisichi applicazioni di deposizione (PVD). Per piacè mandateci una dumanda per i prezzi attuali nantu à i miri di sputtering è altri materiali di deposizione micca listati.