Wholesale TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer and Supplier

Tantalum Niobium

TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Breve descrizzione:

categuria	Alloy Sputtering Target
Formula chimica	TaNb
Cumpusizioni	Tantalum Niobium
Purità	99,9%，99,95%，99,99%
Forma	Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made
Prucessu di pruduzzione	A fusion à vacuum
Taglia dispunibule	L≤2000mm,W≤200mm

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Tantalum Niobium Sputtering Target Description

Tantaliu Niobium sputtering target hè fabbricatu per mezu di vacuum melting di Tantalum è Niobium. Questi dui sò un altu puntu di fusione (Tantalu 2996 ℃, Niobium 2468 ℃), altu puntu di ebollizione (Tantalu 5427 ℃, Niobium 5127 ℃) metalli rari. A lega di tantalu Niobiu hà l'apparenza simili cù l'acciaio, hà un lustre grisgiu argentu (mentre chì a polvera hè grisa scura). Havi assai proprietà favurevuli: resistenza à a corrosione, superconductività è forza à alta temperatura. Allora ogni appiicazioni o industrii puderanu prufittà di l'usu di leghe Tantalum Niobium, cum'è l'elettronica, u vetru è l'ottica, l'aerospaziali, i dispositi medichi, a superconduttività è l'acciaio.

Tantalu è Niobiu sò stati cruciali in l'industria spaziale per anni per via di a so forza impressiunanti, a resistenza à a corrosione è altre caratteristiche attrattivi, è sò stati usati in parechji cumpunenti impurtanti cum'è i mutori di razzi è i bocchi.

Tantaliu Niobium Sputtering Target Packaging

U nostru scopu di sputter TaNb hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità. Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.

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I miri di sputtering Tantalum Niobium di RSM sò di purezza ultra-alta è uniformi. Sò dispunibuli in diverse forme, purità, dimensioni è prezzi. Semu spicializati in a produzzione di materiali di rivestimentu di film sottile d'alta purezza cù prestazioni eccellenti è ancu a più alta densità pussibule è a più piccula dimensione di granu mediu pussibule per l'usu in u revestimentu di stampi, a decorazione, a parti di l'automobile, u vetru low-E, u circuitu integratu semi-conduttore, u film sottile. resistenza, visualizazione grafica, aerospaziale, registrazione magnetica, schermu tattile, batteria solare di film sottile è altri vapori fisichi applicazioni di deposizione (PVD). Per piacè mandateci una dumanda per i prezzi attuali nantu à i miri di sputtering è altri materiali di deposizione micca listati.

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