NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Nickel Vanadium
Nichel Vanadium Sputtering Target Description
L'oru hè spessu applicatu in a deposizione di u circuitu integratu, ma AuSi cumpostu di fusione bassu hè spessu furmatu se l'oru hè cumminatu cù u silicuu, chì pruvucarà u looseness trà e diverse strati. Pure Nickel hè una bona scelta per a strata Adhesive, mentre chì una strata di Barriera hè ancu necessaria trà a strata di Nickel è Gold per prevene a proliferazione. U vanadiu puderia satisfà perfettamente stu requisitu cù un altu puntu di fusione è a capacità di stà alta densità di ampere. Dunque, u nichel, u vanadiu è l'oru sò trè materiali generalmente applicati in l'industria di i circuiti integrati. Nickel Vanadium Sputtering Target hè fabricatu aghjunghjendu Vanadium in Nickel fusu. Cù ferromagnetismu bassu, hè una bona scelta per u magnetron sputtering di i prudutti elettronichi, chì puderanu pruduce a strata di Nickel è Vanadium in una volta.
Ni-7V wt% Contenutu di impurità
Purità | Cumpunente principale(% in peso) | Sustanze chimiche impurità(≤ppm) | Impurità In totale(≤ppm) | ||||||
V | Fe | Al | Si | C | N | O | S | ||
99,99 | 7± 0,5 | 20 | 30 | 20 | 100 | 30 | 100 | 20 | 100 |
99,95 | 7± 0,5 | 200 | 200 | 200 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
99.9 | 7± 0,5 | 300 | 300 | 300 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
Packaging Target per Sputtering di Nickel Vanadium
U nostru scopu di sputter di Nickel Vanadium hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità. Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.
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