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NiCrCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nickel Chromium Copper

Descrizione breve:

categuria

Alloy Sputtering Target

Formula chimica

NiCrCu

Cumpusizioni

Nickel cromu ramu

Purità

99,5%,99,7%,99,9%,99,99%

Forma

Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made

Prucessu di pruduzzione

A fusion à vacuum

Taglia dispunibule

L≤2000mm,W≤350mm


Detail di u produttu

Tags di u produttu

NiCrCu Sputtering target hè pruduttu da a fusione è a fusione di materie prime di Nickel Chromium Copper. Hà una alta resistività, un coefficient di temperatura bassu è una alta sensibilità. Nickel è Chromium hannu l 'energia di a superficia simile, è a cumpusizioni di NiCrCu dipusizioni thin-film hè simile à u mira sputtering, cusì hè facile à cuntrullà u risultatu dipositu.

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali di Sputtering di Nickel Chromium Copper secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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