Wholesale NiCrAlY Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer and Supplier

Nickel Chromium Aluminium Yttrium

NiCrAlY Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Descrizione breve:

categuria	Alloy Sputtering Target
Formula chimica	NiCrAlY
Cumpusizioni	Nickel Chromium Aluminium Yttrium
Purità	99,5%，99,7%，99,9%，99,95%
Forma	Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made
Prucessu di pruduzzione	A fusion à vacuum
Taglia dispunibule	L≤200mm,W≤200mm

Mandate un email à noi

Detail di u produttu

Tags di u produttu

Video

Nickel Chromium Aluminium Yttrium Sputtering Target Description

NiCrAlY Sputtering target hè pruduttu da a fusione à vacuum di materie prime di Nickel Chromium Aluminium Ittriu. Hà una alta consistenza è granulazione fine è senza pori. A so cumpusizioni di Chromium varieghja da 10-30% (wt), Aluminium 10-20% (wt), Yttrium 0.5-1.0% (wt) ，e rende a struttura bi-layered di γ+β.
A strata NiCrAlY hè spessu usata cum'è rivestimenti di barriera termale. A corrosione à alta temperatura si riferisce à un attaccu chimicu di Alloys à base di ferru, nichel è cobalt chì formanu Cromia da gasi, sali solidi o fusi, o metalli fusi, tipicamente à temperature sopra 400 ° C (750 ° F). L'applicazione di a strata NiCrAlY utilizata in l'Alta Temperature Step Alloy di aerei è turbine di gas puderia migliurà a prestazione di resistenza à a corrosione è allargà a vita di u produttu.

Nickel Chromium Aluminium Yttrium Sputtering Target Packaging

I nostri Nickel Chromium Aluminium Yttriumsputter targethè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità. Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.

Get Contact

L'obiettivi di sputtering di RSM Nickel Chromium Aluminium Yttrium sò di ultra alta purezza è uniformi. Sò dispunibuli in diverse forme, purità, dimensioni è prezzi. Semu spicializati in a produzzione di materiali di rivestimentu di film sottile d'alta purezza cù prestazioni eccellenti è ancu a più alta densità pussibule è a più piccula dimensione di granu mediu pussibule per l'usu in u revestimentu di stampi, a decorazione, a parti di l'automobile, u vetru low-E, u circuitu integratu semi-conduttore, u film sottile. resistenza, visualizazione grafica, aerospaziale, registrazione magnetica, schermu tattile, batteria solare di film sottile è altri vapori fisichi applicazioni di deposizione (PVD). Per piacè mandateci una dumanda per i prezzi attuali nantu à i miri di sputtering è altri materiali di deposizione micca listati.