Requisiti di prestazione per i materiali di destinazione in l'industria di almacenamiento otticu

U materiale di destinazione utilizatu in l'industria di l'almacenamiento di dati richiede una purezza elevata, è impurità è pori deve esse minimizzati per evità a generazione di particelle di impurità durante a sputtering. U materiale di destinazione utilizatu per i prudutti d'alta qualità richiede chì a so dimensione di particella di cristallu deve esse chjuca è uniforme, è ùn anu micca orientazione di cristalli. Sottu, fighjemu un ochju à i requisiti di l'industria di almacenamiento otticu per u materiale di destinazione?

1. Purità

In l'applicazioni pratiche, a purezza di i materiali di destinazione varieghja secondu e diverse industrii è esigenze. Tuttavia, in generale, più alta hè a purità di u materiale di destinazione, u megliu u rendiment di a film sputtered. Per esempiu, in l'industria di l'almacenamiento otticu, a purità di u materiale di destinazione deve esse più grande di 3N5 o 4N.

2. Cuntinutu impurità

U materiale di destinazione serve cum'è a fonte di cathode in sputtering, è impurità in u solidu è l'ossigenu è u vapore d'acqua in i pori sò i principali fonti di contaminazione per deposità filmi sottili. In più, ci sò esigenze spiciali per scopi di differente usi. Pigliendu l'industria di l'almacenamiento otticu per esempiu, u cuntenutu di impurità in i miri di sputtering deve esse cuntrullatu assai bassu per assicurà a qualità di u revestimentu.

3. Grandezza di granu è distribuzione di grandezza

Di solitu, u materiale di destinazione hà una struttura policristallina, cù granuli chì varienu da micrometri à millimetri. Per i miri cù a listessa cumpusizioni, a rata di sputtering di mira di granu fini hè più veloce di quella di mira di granu grossu. Per i miri cù differenze di dimensione di granu più chjuche, u spessore di film depositatu serà ancu più uniforme.

4. Compattezza

Per riduce a porosità in u materiale di destinazione solidu è migliurà u rendiment di a film, hè generalmente necessariu chì u materiale di destinazione sputtering hà una alta densità. A densità di u materiale di destinazione dipende principalmente da u prucessu di preparazione. U materiale di destinazione fabbricatu da u metudu di fusione è di colata pò assicurà chì ùn ci hè micca pori in u materiale di destinazione è a densità hè assai alta.