Target d'Ittriu d'Alta Purità - Un Membru impurtante di u Revestimentu PVD

Chì ghjè u target di sputtering di ittriu?
L'uttellu di ittriu hè principalmente pruduciutu da l'elementu metallicu di l'ittriu sputtering target, perchè l'elementu d'ittriu (Y) hè unu di l'elementi di metallu di a terra rara, cusì u scopu di l'ittriu hè cunnisciutu ancu com'è mira di a terra rara.
I miri di ittriu sò principalmente usati in a tecnulugia di deposizione sputtering. A tecnulugia di deposizione di sputtering hè una di e tecnulugia di deposizione fisica di vapore (PVD), è hè una di e tecnulugia principali per a preparazione di materiali elettronichi di film sottili. Bombardendu a superficia di u mira cù particelle d'alta energia (cum'è ioni o fasci di elettroni), l'atomi o molécule di destinazione sò sputtered fora è dipositu nantu à un altru sustrato per furmà a film o revestimentu desideratu.
L'obiettivu di ittriu hè solu u materiale fonte di u filmu o revestimentu desideratu preparatu da a tecnulugia PVD.

Chì ghjèluU scopu di sputtering di ittriu usatu per?

I miri di Yttrium anu una larga gamma di applicazioni in parechji campi, i seguenti sò i principali spazii d'applicazione:

1. Materiali semiconduttori: In l'industria di i semiconduttori, i miri di ittriu sò usati per pruduce strati specifichi in materiali semiconduttori o cumpunenti elettronichi, cum'è transistori, circuiti integrati, etc.
2. Revestimentu otticu: In u campu di l'ottica, i miri di ittriu ponu esse aduprati per preparà revestimenti ottici cù un altu indice di rifrazione è una bassa rata di scattering, chì ghjucanu un rolu impurtante in a produzzione di apparecchi ottici cum'è laser è filtri ottici.
3. Depositu di film sottile: L'obiettivu di ittriu occupa una pusizione impurtante in a tecnulugia di deposizione di film sottile, è a so alta purezza, a bona stabilità è e proprietà fisiche è chimiche specifiche facenu una scelta ideale per a preparazione di una varietà di materiali di film sottile. Questi materiali di film sottili anu una larga gamma di applicazioni in campi ottici, elettronichi, magnetichi è altri.
4. Campu medico: i miri di ittriu anu applicazioni impurtanti in a medicina di a radiazione, cum'è una fonte di raghji X è raghji gamma, imaging diagnosticu (cum'è scans CT), è radioterapia. Inoltre, isotopi specifichi di ittriu (cum'è Y-90) ponu ancu esse aduprati in radiofarmaceutici per u trattamentu miratu di cancers specifichi.
5. Industria di l'energia nucleare: In i reattori nucleari, i miri di ittriu sò usati cum'è materiali di leva per cuntrullà a velocità è a stabilità di e reazioni nucleari per via di a so eccellente capacità di assorbimentu di neutroni.

Nota: Siccomu i requisiti di prestazione di i miri di ittriu in diversi campi di applicazione ponu esse sfarenti, u mira adattatu deve esse sceltu secondu a situazione attuale in l'applicazione specifica. (Cum'è purezza specifica, ratio di cumpusizioni, dimensione, forma, etc., persunalizate secondu esigenze specifiche.)

Tecnulugia di pruduzzione di obiettivi di sputtering di ittriu?

1. Preparate u polveru di ittriu 2. HIP, pressing molding 3. Sinterizazione à alta temperatura 4.Trattamentu sussegwenti (Cutting, Polishing, etc.) 5. Pulizia è imballaggio

Nota: In più di i passi basi di sopra, secondu u metudu di preparazione specificu è i bisogni di l'applicazione, i miri di sputtering di ittriu ponu ancu implicà altri passi è tecnulugia, cum'è u metudu di sputtering, u metudu di fusione in vacuum, etc. prestazioni è struttura di u materiale di destinazione.

Cumu sceglie un mira di sputtering d'alta qualità?

I seguenti elencu i 7 fatturi impurtanti per selezziunà obiettivi di sputtering di alta qualità:

1.Salutgh purezza

Obiettivi d'alta purezza anu megliu proprietà di materiale è proprietà fisiche è chimiche più stabili, chì hè essenziale per assicurà a qualità è u rendiment di i rivestimenti sputtering. I requisiti di purezza specifichi duveranu esse determinati secondu u scenariu di l'applicazione, alcuni scenarii d'applicazione simplici ùn anu micca bisognu di perseguite una purezza ultra-alta, per ùn aumentà i costi inutili. Ciò chì vi cunvene hè u megliu.

2.Stabilità

A stabilità di u mira hè ugualmente impurtante, chì pò evità a perdita di materiale o fluttuazioni di rendiment durante a sputtering. Dunque, in a selezzione, unu sceglie u trattamentu speciale o avè una bona stabilità di u pruduttu.

3.Size è forma

A dimensione è a forma di u scopu di sputtering deve esse sceltu secondu e esigenze specifiche di l'equipaggiu di rivestimentu per adattà à diversi prucessi di sputtering è bisogni di produzzione. Assicurendu chì l'obiettivu hè adattatu à l'equipaggiu aumenta l'efficienza di sputtering è riduce i rifiuti.

4.Densità

A densità hè unu di l'indicatori impurtanti per misurà a qualità di u materiale di destinazione. U materiale di destinazione d'alta densità pò assicurà un megliu effettu di sputtering. Quandu selezziunate, duvete attentu à i dati di densità di u mira, è pruvate à sceglie i prudutti cù densità più altu.

5.Processing precisione

A precisione di trasfurmazioni di u mira hè ancu unu di i fatturi chì deve esse cunsideratu. In generale, a precisione di trasfurmazioni di u target hè necessaria à esse in ± 0.1mm per assicurà a stabilità di u prucessu di sputtering è l'uniformità di a qualità di u revestimentu.

esigenze 6.Special

Per certi scenarii d'applicazioni speciali, cum'è a necessità di alta trasmittanza di luce, bassu assorbimentu di u mira (revestimentu otticu) o alta conducibilità, alta stabilità di u mira (campu elettronicu), deve esse sceltu secondu i bisogni specifichi di u mira currispundente. tipu.

7.Select un fabricatore prufessiunale o fornitore.