MoNb Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

I miri di Molibdenu Niobiu sò preparati mischjendu i polveri di Molibdenu è Niobiu seguitu da a compattazione à a densità piena. I materiali cusì compactati sò opzionalmente sinterizzati è sò poi furmati in a forma di destinazione desiderata.
U molibdenu Niobium sputtering target hà un altu puntu di fusione, forza è tenacità à temperature elevate. Presenta ancu una eccellente conduttività termica è elettrica cù un bassu coefficientu di espansione termica. L'aggiunta di Niobiu in Molibdenu migliurà u pixel di visualizazione di cristalli liquidi da almenu trè volte.

L'obiettivu di sputtering di Molibdenu Niobium sò materiali critichi per Display Flat Panel (FPD) è sò usati in grande quantità in leghe di molibdenu-niobium per Display a cristalli liquidi (LCD) fonte cuboide di cristalli liquidi, display di emissioni di campu, display organico di emissione di luce, plasma. pannelli di visualizzazione, display di catodoluminescenza, display fluorescente di vacuum, display TFT flessibile è schermi tattili, etc. Fasci di elettroni l'evaporazione di i prucessi di visualizazione di u pannellu pò fà un depositu di Niobium à a cima di l'emettitore, chì serà assai utile in u sviluppu di grandi schermi cù alta definizione.

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Molybdenu Niobium Sputtering Materiali secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.