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MoCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Molibdenu Copper

Breve descrizzione:

categuria

Alloy Sputtering Target

Formula chimica

MoCu

Cumpusizioni

Molibdenu Copper

Purità

99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made

Prucessu di pruduzzione

PM

Taglia dispunibule

L≤200mm,W≤200mm


Detail di u produttu

Tags di u produttu

Molibdenu Copper sputtering target hè fabbricatu per mezu di sinterizzazione di infiltrazione: Molibdenu polveri sinterizzati è furmati in i prudutti semi-finiti, cumminati cù una successiva strategia di soluzione aquosa assistita da microonde. A lega di rame Molibdenu hà proprietà fisiche è meccaniche eccezziunali: conduttività elettrica è termica satisfactoria, coefficientu di espansione termica bassu è regulabile, resistenza à l'usura è resistenza à alta temperatura.

cumpusizioni (%)

Cu

Mo

impurità (%)

MoCu10

10 ± 2

Balance

≤0,1

MoCu15

15 ± 3

Balance

≤0,1

MoCu20

20 ± 3

Balance

≤0,1

MoCu25

25 ± 3

Balance

≤0,1

MoCu40

40 ± 5

Balance

≤0,1

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Molybdenu Copper Sputtering Materiali secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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