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Hafnium

Hafnium

Descrizione breve:

categuria Target di sputtering di metallu
Formula chimica Hf
Cumpusizioni Hafnium
Purità 99,9%,99,95%,99,99%
Forma Piatti,Colonne Targets,arc catodi,Su misura
Prucessu di pruduzzione A fusion à vacuum,PM
Taglia dispunibule L≤ 2000 mm,W ≤ 200 mm

Detail di u produttu

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Hafnium hà un metallu di transizione brillanti d'argentu è hè naturalmente duttile. Hà u numeru atomicu di 72 è a massa atomica di 178,49. U so puntu di fusione hè 2227 ℃, u puntu di ebollizione di 4602 ℃ è a densità di 13,31 g/cm³. Hafnium ùn reagisce micca cù l'acidu clorhidric diluitu, l'acidu sulfuric diluitu è ​​e suluzioni alkaline forti, ma hè soluble in l'acidu fluoridicu è l'acqua regia.

Obiettivi di sputtering di Hafnium puderanu aiutà à a furmazione di rivestimenti per diverse applicazioni: apparecchi ottici, resistori di film sottile, porte di circuiti integrati è sensori.

Rich Special Materials hè un Produttore di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali di Sputtering di Hafnium di alta purezza secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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