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FeSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Siliciu di ferru

Descrizione breve:

categuria

Alloy Sputtering Target

Formula chimica

FeSi

Cumpusizioni

Siliciu di ferru

Purità

99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made

Prucessu di pruduzzione

A fusion à vacuum

Taglia dispunibule

L≤200mm,W≤200mm


Detail di u produttu

Tags di u produttu

Iron Silicium Alloy di solitu hà u cuntenutu di Siliciu di 0,5-4%. Havi una perdita di isteresi più bassa di u Ferru puru è una alta resistività, è puderia esse appiicata in u campu magneticu. Per riduce a perdita di corrente di Foucault, a lega di Siliciu di Ferru hè spessu laminata à caldu in fogli di 0,35-0,5 mm (laminazione di silicuu). Laminazione di siliciu hè largamente utilizata in l'industria di l'energia elettrica, per quessa hè ancu chjamata azzaru elettricu.

A lega di ferrosilicu offre una proprietà magnetica eccellente è una magnetizazione di saturazione bassa. Hà una grana grossa, alta permeabilità magnetica è resistività, forza coercitiva bassa è perdita di core. U siliciu puderia prumove a grafitizazione di u carbone in l'azzaru è impedisce in modu efficace u fenomenu di invechjamentu magneticu. L'alliage di ferrosiliconu hà una alta stabilità è puderia esse applicatu in ambienti estremi.

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali di Sputtering di Siliciu di Ferru secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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