CrW Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

I miri sò preparati mischjendu polveri di Chroniu è Tungstenu o fusione in vacu seguitu da a compactazione à a densità piena. I materiali cusì compactati sò opzionalmente sinterizzati è sò poi furmati in a forma di destinazione desiderata.

U target di sputtering di Chrome Tungsten hà una alta purezza, una microstruttura omogenea, una alta densità è una grana fina. Puderia esse fabricatu in grande dimensione da HIP. U revestimentu Cr-W hè perfettu per una quantità di industrii è applicazioni, per via di a so resistenza à a corrosione, a durezza, a forza dielettrica è i currenti di taglio minimi.

Rich Special Materials hè un Produttore di Sputtering Target puderia pruduce Chronium Tungsten Sputtering Materiali secondu e specificazioni di i Clienti. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.