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CrAlW Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Tungsten d'aluminiu Chrome

Breve descrizzione:

categuria

Alloy Sputtering Target

Formula chimica

CrAlW

Cumpusizioni

Tungsten d'aluminiu Chrome

Purità

99,7%,99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made

Prucessu di pruduzzione

PM

Taglia dispunibule

L≤2000mm,W≤200mm


Detail di u produttu

Tags di u produttu

U scopu di sputtering di Chrome Aluminium Tungsten hè fabbricatu per mezu di metallurgia di polveri per ottene alta purezza, microstruttura omogenea, alta densità è alta conduttività elettrica.

A lega di Chrome Aluminium Tungsten hè un materiale perfettu per l'industrii di interconnessioni è elettrodi. Havi una superficia liscia, un altu tassu di depositu, una durezza, una forza dielettrica, è puderia esse bè mischjà cù u materiale di sustrato.

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali Sputtering Chronium Aluminium Tungsten secondu e specificazioni di i Clienti. I nostri prudutti presentanu alta purezza, struttura omogenea, alta densità senza segregazione, pori o crepe. Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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