Wholesale TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer ug Supplier

Titanium Silicon

TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Mubo nga Deskripsyon:

Kategorya	Alloy Sputtering Target
Kemikal nga Pormula	TiSi
Komposisyon	Titanium Silicon
Kaputli	99.7%, 99.9%, 99.95%
Porma	Mga plato, Mga Target sa Kolum, mga arc cathode, Gibuhat nga custom
Proseso sa Produksyon	Pagtunaw sa Vacuum, PM
Anaa nga Laki	L≤2000mm, W≤200mm

Ipadala ang email kanamo

Detalye sa Produkto

Mga Tag sa Produkto

Video

Titanium Silicon Sputtering Target Deskripsyon

Ang usa ka super-gahi nga Nitride coating mahimong maporma kung ang Titanium Silicon gihiusa sa Nitrogen gas sa panahon sa proseso sa pagdeposito. Ang Silicon nga elemento nga anaa nagsiguro sa taas nga oxidation resistance nga kinaiya, samtang Titanium - katig-a. Mahimong magpakita kini nga maayo kaayo nga kabtangan sa pagsukol sa pagsul-ob bisan sa taas nga temperatura. Ang mga galamiton sa pagputol nga gideposito sa TiSiN coating maayo alang sa high-speed ug hard milling, ilabina sa dry cutting, ug mahimong mag-atubang sa pipila ka super alloys, sama sa Nickel ug Titanium base alloys.

Ang among kasagaran nga mga target sa TiSi ug ang ilang mga kabtangan

	Ti-15Sisa%	Ti-20Sisa%	Ti-25Sisa%	Ti-30Sisa%
Kaputli (%)	99.9	99.9	99.9	99.9
Densidad(g/cm³）	4.4	4.35	4.3	4.25
Gulan Gidak-on(µm)	200/100	100	100	100
Proseso	VAR/HIP	HIP	HIP	HIP

Ang among kompanya adunay daghang mga tuig nga kasinatian sa paghimo sa mga target nga sputtering alang sa mga himan sa pagputol sa agup-op. Ang Ti-15Si sa%, nga hinimo sa vacuum melting, adunay homogenous nga istruktura, taas nga kaputli ug ubos nga sulud sa gas. Gawas pa, naghatag usab kami og Ti-15Si sa%, Ti-20Si sa% ug Ti-25Si sa% nga gihimo pinaagi sa power metalurgy. Ang among mga target sa TiSi adunay maayo kaayo nga mekanikal nga mga kabtangan, nga naghimo kanila nga dili maapektuhan sa pag-crack ug pagkapakyas sa istruktura.

Titanium Silicon Sputtering Target Packaging

Ang among Titanium Silicon sputter target klaro nga gi-tag ug gimarkahan sa gawas aron masiguro ang episyente nga pag-ila ug pagkontrol sa kalidad. Dakong pag-amping ang gihimo aron malikayan ang bisan unsang kadaot nga mahimong hinungdan sa pagtipig o transportasyon.

Pagkuha og Kontak

Ang RSM's Titanium Silicon sputtering target kay ultra-high purity ug uniporme. Anaa sila sa lainlaing mga porma, kaputli, gidak-on, ug mga presyo. Espesyalista kami sa pagprodyus og taas nga purity thin film coating nga mga materyales nga adunay maayo kaayo nga performance ingon man ang pinakataas nga posible nga densidad ug pinakagamay nga posible nga kasagaran nga mga gidak-on sa lugas alang sa paggamit sa molde coating, dekorasyon, mga piyesa sa sakyanan, ubos-E nga bildo, semi-conductor integrated circuit, nipis nga pelikula. resistensya, graphic display, aerospace, magnetic recording, touch screen, thin film solar battery ug uban pang pisikal nga alisngaw nga deposition (PVD) nga mga aplikasyon. Palihug ipadala kanamo ang usa ka pangutana alang sa karon nga pagpresyo sa mga target nga sputtering ug uban pang mga materyal sa pagdeposito nga wala nalista.