Wholesale TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer ug Supplier

Titanium Aluminum

TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Mubo nga Deskripsyon:

Kategorya	Alloy Sputtering Target
Kemikal nga Pormula	TiAl
Komposisyon	Titanium Aluminum
Kaputli	99.9%, 99.95%, 99.99%
Porma	Mga plato, Mga Target sa Kolum, mga arc cathode, Gibuhat nga custom
Proseso sa Produksyon	Pagtunaw sa Vacuum, PM
Anaa nga Laki	L≤2000mm, W≤200mm

Ipadala ang email kanamo

Detalye sa Produkto

Mga Tag sa Produkto

Video

Titanium Aluminum Sputtering Target Deskripsyon

Ang kinahanglanon sa target nga kalidad alang sa sputter coating mas taas kaysa sa tradisyonal nga industriya sa mga materyales. Ang uniporme nga microstructure sa target direktang makaapekto sa sputtering performance. Kami adunay usa ka kompleto nga sistema sa pagdumala sa kalidad ug gipili namon ang taas nga kaputli nga hilaw nga materyales ug hingpit nga gisagol kini aron masiguro ang homogeneity. Ang Titanium Aluminum alloy sputtering target gihimo pinaagi sa vacuum hot pressing method.

Ang among Titanium Aluminum sputtering target makahatag ug talagsaong oxidation-resistant nitride coating, Titanium aluminum nitride (TiAlN). Ang TiAlN mao ang kasamtangan nga mainstream isip usa ka pelikula alang sa pagputol sa mga himan, pag-slide sa mga bahin ug tribo-coatings. Kini adunay taas nga katig-a, katig-a, wear resistant performance ug oxidation temperature.

Ang among kasagaran nga mga target sa TiAl ug ang ilang mga kabtangan

	Ti-75Al sa%	Ti-70Al sa%	Ti-67Al sa%	Ti-60Al sa%	Ti-50Al sa%	Ti-30Al sa%	Ti-20Al sa%	Ti-14Al sa%
Kaputli (%)	99.7	99.7	99.7	99.7	99.8/99.9	99.9	99.9	99.9
Densidad(g/cm³）	3.1	3.2	3.3	3.4	3.63/3.85	3.97	4.25	4.3
Gulan Gidak-on(µm)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
Proseso	HIP	HIP	HIP	HIP	HIP/VAR	VAR	VAR	VAR

Titanium Aluminum Sputtering Target Packaging

Ang among Titanium Aluminum sputter target klaro nga gi-tag ug gimarkahan sa gawas aron masiguro ang episyente nga pag-ila ug pagkontrol sa kalidad. Dakong pag-amping ang gihimo aron malikayan ang bisan unsang kadaot nga mahimong hinungdan sa pagtipig o transportasyon.

Pagkuha og Kontak

Ang RSM's Titanium Aluminum sputtering target kay ultra-high purity ug uniporme. Anaa sila sa lainlaing mga porma, kaputli, gidak-on, ug mga presyo.
Makahatag kami ug lain-laing geometric nga porma: mga tubo, arc cathodes, planar o custom-made, ug halapad nga proporsiyon sa Aluminum. Ang among mga produkto adunay maayo kaayo nga mekanikal nga mga kabtangan, homogenous microstructure, gipasinaw nga nawong nga wala’y pagkalainlain, mga pores, o mga liki.
Espesyalista kami sa pagprodyus og taas nga purity thin film coating nga mga materyales nga adunay maayo kaayo nga performance ingon man ang pinakataas nga posible nga densidad ug pinakagamay nga posible nga kasagaran nga mga gidak-on sa lugas alang sa paggamit sa molde coating, dekorasyon, mga piyesa sa sakyanan, ubos-E nga bildo, semi-conductor integrated circuit, nipis nga pelikula. resistensya, graphic display, aerospace, magnetic recording, touch screen, thin film solar battery ug uban pang pisikal nga alisngaw nga deposition (PVD) nga mga aplikasyon. Palihug ipadala kanamo ang usa ka pangutana alang sa karon nga pagpresyo sa mga target nga sputtering ug uban pang mga materyal sa pagdeposito nga wala nalista.