PbBi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Nanguna-Bismuth
Lead-Bismuth Sputtering Target Deskripsyon
Nailhan ang lead Bismuth alloy tungod sa ubos nga pagkatunaw niini. Ang ubos nga temperatura sa pagkatunaw nga mga haluang sagad adunay mga 20% hangtod 25% nga tingga, Bismuth, ug usahay uban pang mga metal, sama sa Tin, Cadmium, o Indium. Kini kaylap nga gigamit sa optical nga industriya alang sa lens blocking, work-holding sa precision engineering, prototyping, safety valves, press tools para sa limitado nga run, tube bending para sa mga komplikadong profile, radiotherapy sa paghimo og shielding blocks ug daghan pang mga aplikasyon.
Ang Lead-Bismuth nga haluang metal adunay usa ka punto sa pagtunaw sa 124 ° C, kini usa ka angay nga materyal alang sa coolant sa mga nukleyar nga reaktor, produksiyon sa Hydrogen, ug mga target sa spallation alang sa non-fission neutron nga produksiyon.
Ubos nga temperatura sa pagkatunaw nga haluang metal Ingredient
| No | Coposisyon(wt.%） | Temperatura sa natunaw nga zone/℃ | Pihi | Tips | |||||
|
| Bi | Pb | Sn | Cd | Start | Finish | Kaugalingon gibug-aton sa dagan punto | (%) | |
| 1 | 50.0 | 26.7 | 13.3 | 10.0 | 70 | 70 | 70 |
| eutectic |
| 2 | 52.0 | 32.0 | 16.0 | - | 95 | 95 | 95 |
| eutectic |
| 3 | 54.4 | 43.6 | 1.0 | 1.0 | 104 | 115 | 112 |
| Dili eutectic |
| 4 | 55.5 | 44.5 | - | - | - | - | - | 99.995 | |
Nanguna sa Bismuth Sputtering Target Packaging
Ang among Lead Bismuth sputter target klaro nga gi-tag ug gimarkahan sa gawas aron masiguro ang episyente nga pag-ila ug pagkontrol sa kalidad. Dakong pag-amping ang gihimo aron malikayan ang bisan unsang kadaot nga mahimong hinungdan sa pagtipig o transportasyon.
Pagkuha og Kontak
Ang RSM's Lead Bismuth sputtering target kay ultra-high purity ug uniporme. Anaa sila sa lainlaing mga porma, kaputli, gidak-on, ug mga presyo. Espesyalista kami sa pagprodyus og taas nga purity thin film coating nga mga materyales nga adunay maayo kaayo nga performance ingon man ang pinakataas nga posible nga densidad ug pinakagamay nga posible nga kasagaran nga mga gidak-on sa lugas alang sa paggamit sa molde coating, dekorasyon, mga piyesa sa sakyanan, ubos-E nga bildo, semi-conductor integrated circuit, nipis nga pelikula. resistensya, graphic display, aerospace, magnetic recording, touch screen, thin film solar battery ug uban pang pisikal nga alisngaw nga deposition (PVD) nga mga aplikasyon. Palihug ipadala kanamo ang usa ka pangutana alang sa karon nga pagpresyo sa mga target nga sputtering ug uban pang mga materyal sa pagdeposito nga wala nalista.