Unsa ang mga Kinahanglanon sa Pagganap sa Target

Ang target adunay usa ka halapad nga merkado, aplikasyon nga lugar ug dako nga kalamboan sa umaabot. Aron matabangan ka nga adunay mas maayo nga pagsabot sa target nga mga gimbuhaton, dinhi sa ubos ang RSM engineer sa mubo nga pagpaila sa mga nag-unang kinahanglanon sa paggana sa target.

Kaputli: ang kaputli mao ang usa sa mga nag-unang functional indicators sa target, tungod kay ang kaputli sa target adunay usa ka dako nga epekto sa function sa pelikula. Bisan pa, sa praktikal nga aplikasyon, ang mga kinahanglanon sa kaputli sa target lahi usab. Pananglitan, sa paspas nga pag-uswag sa industriya sa microelectronics, ang gidak-on sa silicon wafer gipalapdan gikan sa 6 "ngadto sa 8" hangtod 12", ug ang gilapdon sa mga kable mikunhod gikan sa 0.5um hangtod 0.25um, 0.18um o bisan 0.13um. Kaniadto, ang 99.995% sa target nga kaputli makatagbo sa mga kinahanglanon sa proseso sa 0.35umic, samtang ang pag-andam sa 0.18um nga mga linya nanginahanglan 99.999% o bisan 99.9999% sa target nga kaputli.

Kahugawan nga sulod: ang mga hugaw sa target nga solido ug oxygen ug tubig nga alisngaw sa mga pores mao ang nag-unang tinubdan sa polusyon sa nadeposito nga mga pelikula. Ang mga target alang sa lainlaing katuyoan adunay lainlaing mga kinahanglanon alang sa lainlaing mga sulud sa kahugawan. Pananglitan, ang puro nga aluminum ug aluminum alloy nga mga target nga gigamit sa industriya sa semiconductor adunay espesyal nga mga kinahanglanon alang sa alkali metal content ug radioactive element content.

Densidad: aron makunhuran ang mga pores sa target nga solid ug mapaayo ang function sa sputtering film, ang target kasagarang gikinahanglan nga adunay taas nga density. Ang densidad sa target dili lamang makaapekto sa sputtering rate, apan makaapekto usab sa electrical ug optical function sa pelikula. Ang mas taas nga target density, mas maayo ang function sa pelikula. Dugang pa, ang densidad ug kalig-on sa target gipaayo aron ang target mas makadawat sa thermal stress sa proseso sa sputtering. Densidad mao usab ang usa sa mga yawe nga functional indicators sa target.