Ang mga kalainan tali sa teknolohiya sa sputtering ug target sa sputtering ug sa ilang mga aplikasyon

Kitang tanan nasayud nga ang sputtering mao ang usa sa mga nag-unang teknolohiya sa pag-andam sa mga materyales sa pelikula. Gigamit niini ang mga ion nga gihimo sa gigikanan sa ion aron mapadali ang pagtipon sa vacuum aron maporma ang usa ka taas nga tulin nga ion beam, bombahan ang solidong nawong, ug ang mga ion nagbaylo sa kinetic energy sa mga atomo sa solidong nawong, aron ang mga atomo sa solido. ibabaw ibilin ang solid ug ibutang sa ibabaw sa substrate. Ang gibombahan nga solid mao ang hilaw nga materyal alang sa pagdeposito sa pelikula pinaagi sa sputtering, nga gitawag nga sputtering target.

Nagkalainlain nga mga klase sa sputtered film nga mga materyales kay kaylap nga gigamit sa semiconductor integrated circuits, recording media, planar display, tool ug die surface coating ug uban pa.

Ang mga target sa sputtering kasagarang gigamit sa mga industriya sa elektroniko ug impormasyon, sama sa integrated circuits, storage sa impormasyon, liquid crystal display, laser memory, electronic control equipment, etc; Mahimo usab kini gamiton sa natad sa glass coating; Mahimo usab kini gamiton sa mga materyales nga dili masul-ob, taas nga temperatura nga pagsukol sa kaagnasan, mga produkto nga pangdekorasyon nga high-end ug uban pang mga industriya.

Adunay daghang mga matang sa sputtering target, ug adunay lain-laing mga pamaagi alang sa klasipikasyon sa mga target:

Sumala sa komposisyon, kini mahimong bahinon ngadto sa metal target, haluang metal target ug seramiko compound target.

Sumala sa porma, kini mahimong bahinon ngadto sa taas nga target, square target ug round target.

Mahimo kini bahinon sa microelectronic target, magnetic recording target, optical disk target, precious metal target, film resistance target, conductive film target, surface modification target, mask target, decorative layer target, electrode target ug uban pang mga target sumala sa aplikasyon field.

Sumala sa lain-laing mga aplikasyon, kini mahimong bahinon ngadto sa semiconductor nga may kalabutan nga seramik nga mga target, pagrekord sa medium nga seramik nga mga target, pagpakita sa seramik nga mga target, superconducting ceramic nga mga target ug higante nga magnetoresistance ceramic nga mga target.