Ang mga kalainan tali sa evaporation coating ug sputtering coating

Sama sa nahibal-an namong tanan, ang vacuum evaporation ug ion sputtering sagad gigamit sa vacuum coating. Unsa ang kalainan tali sa evaporation coating ug sputtering coating? Sunod, ang mga eksperto sa teknikal gikan sa RSM mopaambit kanamo.

Ang vacuum evaporation coating mao ang pagpainit sa materyal nga maalisngaw sa usa ka temperatura pinaagi sa pagpainit sa resistensya o electron beam ug pagpamomba sa laser sa usa ka palibot nga adunay vacuum degree nga dili moubos sa 10-2Pa, aron ang thermal vibration energy sa mga molekula o atomo sa materyal nga milapas sa nagbugkos nga enerhiya sa nawong, mao nga ang usa ka dako nga gidaghanon sa mga molekula o mga atomo evaporate o sublimate, ug direkta precipitate sa substrate sa paghimo og pelikula. Ang Ion sputtering coating naggamit sa high-speed nga paglihok sa positibo nga mga ion nga namugna sa gas discharge ubos sa aksyon sa electric field aron bombahan ang target isip cathode, aron ang mga atomo o mga molekula sa target makalingkawas ug mo-precipitate sa ibabaw sa plated workpiece aron maporma. ang gikinahanglan nga pelikula.

Ang labing sagad nga gigamit nga pamaagi sa vacuum evaporation coating mao ang pagpainit sa resistensya, nga adunay mga bentaha sa yano nga istruktura, mubu nga gasto ug dali nga operasyon; Ang disbentaha mao nga kini dili angay alang sa mga refractory metal ug taas nga temperatura nga resistensya sa dielectric nga mga materyales. Ang pagpainit sa electron beam ug pagpainit sa laser makabuntog sa mga kakulangan sa pagpainit sa resistensya. Sa pagpainit sa electron beam, ang naka-focus nga electron beam gigamit sa direkta nga pagpainit sa bombarded nga materyal, ug ang kinetic energy sa electron beam nahimong init nga enerhiya, nga naghimo sa materyal nga evaporate. Ang pagpainit sa laser naggamit sa high-power laser isip tinubdan sa pagpainit, apan tungod sa taas nga gasto sa high-power nga laser, kini magamit lamang sa pipila ka mga laboratoryo sa panukiduki sa pagkakaron.

Ang teknolohiya sa sputtering lahi sa teknolohiya sa vacuum evaporation. Ang "sputtering" nagtumong sa panghitabo nga ang mga partikulo nga gikargahan nagbomba sa solid nga nawong (target) ug naghimo sa solidong mga atomo o molekula nga mobuto gikan sa nawong. Kadaghanan sa mga gibuga nga mga partikulo anaa sa atomic state, nga sagad gitawag nga sputtered atoms. Ang mga sputtered nga mga partikulo nga gigamit sa pagbomba sa target mahimong mga electron, ion o neutral nga mga partikulo. Tungod kay ang mga ions dali nga mopaspas sa ilawom sa electric field aron makuha ang gikinahanglan nga kinetic energy, kadaghanan kanila naggamit sa mga ion isip mga partikulo nga gibombahan. Ang proseso sa sputtering gibase sa glow discharge, nga mao, ang mga sputtering ions gikan sa gas discharge. Ang lainlaing mga teknolohiya sa sputtering nagsagop sa lainlaing mga mode sa pag-agas sa kahayag. Ang DC diode sputtering naggamit sa DC glow discharge; Ang triode sputtering usa ka glow discharge nga gisuportahan sa init nga cathode; Ang RF sputtering naggamit sa RF glow discharge; Ang Magnetron sputtering usa ka glow discharge nga kontrolado sa annular magnetic field.

Kung itandi sa vacuum evaporation coating, ang sputtering coating adunay daghang mga bentaha. Pananglitan, ang bisan unsang substansiya mahimong ma-sputter, labi na ang mga elemento ug mga compound nga adunay taas nga lebel sa pagkatunaw ug ubos nga presyur sa alisngaw; Ang adhesion tali sa sputtered film ug substrate maayo; Taas nga density sa pelikula; Ang gibag-on sa pelikula mahimong kontrolado ug maayo ang pag-usab. Ang disbentaha mao nga ang mga ekipo komplikado ug nanginahanglan taas nga boltahe nga mga aparato.

Dugang pa, ang kombinasyon sa evaporation method ug sputtering method mao ang ion plating. Ang mga bentaha sa kini nga pamaagi mao nga ang nakuha nga pelikula adunay lig-on nga pagdikit sa substrate, taas nga rate sa pagdeposito ug taas nga density sa pelikula.