Mga bentaha sa cylindrical ug planar magnetron sputtering target

Ang teknikal nga consultant sa RSM mopaambit kanimo sa mga bentaha sa cylindrical ug planar magnetron sputtering target? Kung itandi sa ubang mga target sa pag-sputter sa magnetron, ang mga target sa cylindrical ug planar magnetron sputtering nagpabilin ang mga bentaha sa maayo nga pagkaparehas sa coating sa mga rectangular planar target, ug mahimo nga mapadako ang paggamit sa mga target pinaagi sa mosunod nga duha ka paagi:

(1) Sa diha nga ang duha ka mga grupo (upat ka) sa annular gahong sa ibabaw sa nawong sa target sa pagkab-ot sa usa ka giladmon, ang target core (magnet nga bahin) mahimong tuyok 45 ° paryente sa target tube, mao nga ang ubang mga dapit sa target tube nga wala madugta mahimong gamiton;

(2) Sa diha nga ang target nga core sa cylindrical ug planar magnetron sputtering target gidisenyo isip usa ka rotating target core (ang target core nagtuyok sa panahon sa sputtering), ang nawong sa target mahimong parehas nga sputtered off layer sa layer nga walay mga gahong. Niini nga panahon, ang target gamiton nga labing epektibo, ug ang utilization rate sa target mahimong moabot sa 50% ~ 60% Kung ang target nga materyal bililhon nga metal, kini klaro nga hinungdanon kaayo.

Pinaagi sa paggamit sa prinsipyo sa magnet nga adunay poste nga sapatos sa coaxial cylindrical magnetron sputtering target aron masulbad ang problema sa katapusan nga magnetic field, ang rectangular plane target mahimong mausab ngadto sa cylindrical ug planar magnetron sputtering target, Ang target mahimong mapadako ang utilization rate sa target samtang gitipigan ang maayo nga coating uniformity sa rectangular plane target Aron mapalambo ang mga benepisyo sa ekonomiya.