Welcome sa among mga website!

Ang FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Iron Cobalt Tantalum

Mubo nga Deskripsyon:

Kategorya

Alloy Sputtering Target

Kemikal nga Pormula

FeCoTa

Komposisyon

Iron Cobalt Tantalum

Kaputli

99.9%, 99.95%, 99.99%

Porma

Mga plato, Mga Target sa Kolum, mga arc cathode, Gibuhat nga custom

Proseso sa Produksyon

Pagtunaw sa Vacuum, PM

Anaa nga Laki

L≤200mm, W≤200mm


Detalye sa Produkto

Mga Tag sa Produkto

Ang mga target sa Iron Cobalt Tantalum kasagaran anaa sa lingin nga porma ug kritikal nga manipis nga mga materyales sa pelikula sa vertical nga magnetic recording media. Ang igong gidaghanon sa Tantalum nga anaa sa haluang metal moresulta sa paglainlain ug presente nga dili matunaw nga mga partikulo. Gigamit namon ang talagsaon nga pamaagi sa produksiyon nga masiguro ang homogeneity sa microstructure ug mapaayo ang mekanikal nga kabtangan sa mga materyales.

Ngalan sa produkto

FeCoTa

Fe/wt%

Balanse

Balanse

Balanse

Co/wt%

21.6±0.5

21.9±0.5

20.2±0.5

Ta/wt%

41.1±0.8

39.4±0.8

44.3±0.8

Ang sulud sa kahugawan sa metal(ppm)

Ni

≤100

≤100

≤100

Al

≤300

≤300

≤300

Si

≤200

≤200

≤200

Gas impurity sulod(ppm)

C

≤200

≤200

≤200

N

≤100

≤100

≤100

O

≤600

≤600

≤600

S

≤75

≤75

≤75

Ang Rich Special Materials espesyalista sa Paggama sa Sputtering Target ug makahimo sa Iron Cobalt Tantalum Sputtering Materials sumala sa mga detalye sa mga Kustomer. Para sa dugang nga impormasyon, palihog kontaka mi.


  • Kaniadto:
  • Sunod: