AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

Ang mga target giandam pinaagi sa pagsagol sa Aluminum ug Silicon nga mga pulbos nga gisundan sa compaction sa bug-os nga densidad. Ang ingon nga compacted nga mga materyales opsyonal nga sintered ug unya maporma ngadto sa gitinguha nga target nga porma. Ang among Aluminum Silicon sputtering nga mga target anaa sa rectangular, circular o custom-made geometric nga mga porma, Aluminum nga sulod gikan sa 10-90% atomic, ug adunay taas nga kaputli, homogenous microstructure, taas nga densidad ug taas nga kinabuhi sa pagtrabaho.

Ang Aluminum Silicon kaylap nga gigamit sa mga industriya sa automotive, eroplano ug konstruksyon alang sa talagsaon nga kombinasyon sa gitinguha nga mga kinaiya, lakip ang gaan nga gibug-aton, maayo nga thermal conductivity ug mekanikal nga mga kabtangan. Ang Densidad sa kini nga materyal mao ang 2.6 ~ 2.7g / cm3, thermal conductivity coefficient 101 ~ 126W / (m · ℃), tensile modulus 71.0GPa, limitasyon sa kakapoy ± 45MPa. Ang mga aluminyo-silicon nga mga haluang adunay maayo usab nga resistensya sa kaagnasan, pagkamachinability, ug pagkaweld. Ang aluminum-silicon alloys gigamit sa lain-laing mga automotive, aerospace, ug consumer product applications, sama sa engine blocks ug cylinder liners, pistons, bearing alloy materials, ug consumer electronics components.+2. Kini adunay taas nga punto sa pagkatunaw, ductility, katig-a, ug resistensya sa corrosion.