TiNbZr Sputtering Target Revestiment de Pvd de pel·lícula fina d'alta puresa fet a mida

Titani Niobi Zirconi L'objectiu de sputtering es fabrica mitjançant la fusió al buit. Té un mòdul d'elasticitat baix, una alta resistència, una resistència a la fatiga i un comportament de resistència a la corrosió. És un material biocompatible i es pot utilitzar àmpliament en aplicacions de dispositius mèdics que es poden treballar en fred fins a un alt nivell de resistència i flexibilitat per millorar el rendiment dels implants i dispositius mèdics d'ortodòncia, endodòncia, dental, ortopèdica, cardiovascular i altres. .

Rich Special Materials és un fabricant de Sputtering Target i podria produir materials Sputtering de titani niobi zirconi segons les especificacions dels clients. Per a més informació, poseu-vos en contacte amb nosaltres.