TiNb Sputtering Target Revestiment de Pvd de pel·lícula fina d'alta puresa fet a mida
Niobi de titani
Descripció de l'objectiu de tàntal niobi
L'objectiu de polverització de titani niobi es fabrica mitjançant la fusió al buit o la metal·lúrgia elèctrica. El contingut típic de titani és del 66% (aproximadament el 50% en pes). És un material de superconductivitat extraordinari i es pot convertir en una varietat de materials pràctics compostos mitjançant un procés de deformació i tractament tèrmic convencional.
Embalatge objectiu de polverització de niobi de titani
El nostre objectiu de polsador de titani niobi està clarament etiquetat i etiquetat externament per garantir una identificació eficient i un control de qualitat. Es té molta cura per evitar qualsevol dany que es pugui causar durant l'emmagatzematge o el transport.
Aconsegueix contacte
Els objectius de pulverització de niobi de titani de RSM són de puresa ultra alta i uniformes. Estan disponibles en diferents formes, pureses, mides i preus.
Podríem subministrar una varietat de formes geomètriques: tubs, càtodes d'arc, planars o fets a mida. Els nostres productes presenten excel·lents propietats mecàniques, microestructura homogènia, superfície polida sense segregació, porus o esquerdes.
Ens especialitzem en la producció de materials de recobriment de pel·lícula prima d'alta puresa amb un rendiment excel·lent, així com la densitat més alta possible i les mides mitjanes de gra més petites possibles per al seu ús en recobriment de motlles, decoració, peces d'automòbils, vidre de baixa emissió, circuit integrat de semiconductors, pel·lícula fina. resistència, pantalla gràfica, aeroespacial, enregistrament magnètic, pantalla tàctil, bateria solar de pel·lícula fina i altres vapors físics aplicacions de deposició (PVD). Si us plau, envieu-nos una consulta sobre els preus actuals dels objectius de pols i altres materials de deposició que no figuren a la llista.
Categories de productes
-
Objectiu de pulverització de CuAl Pv de pel·lícula fina d'alta puresa...
-
MoNi Sputtering Objectiu Pv de pel·lícula fina d'alta puresa...
-
Objectiu de pulverització d'aliatge CrCo Fíl prim d'alta puresa...
-
WNiCu Sputtering Objectiu de pel·lícula fina d'alta puresa...
-
WNi Sputtering Target Pvd de pel·lícula prima d'alta puresa...
-
Objectiu de pulverització d'aliatge d'alta puresa F...