El polisilici és un material important per a la polsació catòdica. L'ús del mètode de pulverització de magnetrons per preparar SiO2 i altres pel·lícules primes pot fer que el material de la matriu tingui una millor resistència òptica, dielèctrica i a la corrosió, que s'utilitza àmpliament en indústries tàctils, òptiques i altres.
El procés de colada de cristalls llargs consisteix a realitzar la solidificació direccional del silici líquid des de la part inferior cap a la part superior gradualment controlant amb precisió la temperatura de l'escalfador al camp calent del forn de lingot i la dissipació de calor del material d'aïllament tèrmic, i el La velocitat dels cristalls llargs de solidificació és de 0,8 ~ 1,2 cm/h. Al mateix temps, en el procés de solidificació direccional, es pot realitzar l'efecte de segregació dels elements metàl·lics en materials de silici, la majoria dels elements metàl·lics es poden purificar i es pot formar una estructura uniforme de gra de silici policristalí.
El polisilici de fosa també s'ha de dopar intencionadament en el procés de producció, per tal de canviar la concentració d'impureses acceptores a la fosa de silici. El principal dopant de polisilici fos de tipus p a la indústria és l'aliatge principal de silici bor, en el qual el contingut de bor és d'uns 0,025%. La quantitat de dopatge ve determinada per la resistivitat objectiu de la hòstia de silici. La resistivitat òptima és de 0,02 ~ 0,05 Ω • cm, i la concentració de bor corresponent és d'uns 2 × 1014cm-3。 Tanmateix, el coeficient de segregació del bor en silici és de 0,8, la qual cosa mostrarà un cert efecte de segregació en el procés de solidificació direccional, que és a dir, l'element bor es distribueix en un gradient en la direcció vertical del lingot, i la resistivitat disminueix gradualment des del fons fins a la part superior del lingot.
Hora de publicació: 26-jul-2022