Recentment, hi ha hagut moltes consultes dels clients sobre els mètodes de processament d'objectius d'alumini d'alta puresa. Els experts objectiu de RSM assenyalen que l'objectiu d'alumini d'alta puresa es pot dividir en dues categories: aliatge d'alumini deformat i aliatge d'alumini fos segons el mètode de processament: L'aliatge d'alumini deformat pot suportar el processament de pressió. Es pot processar en diverses formes, especificacions d'aliatge d'alumini. S'utilitza principalment per a la fabricació d'equips d'aviació, portes de construcció i finestres, etc. A continuació, deixem que l'editor de RSM comparteixi els mètodes de processament de l'objectiu d'alumini d'alta puresa?
L'aliatge d'alumini de deformació es divideix en aliatge d'alumini reforçat sense tractament tèrmic i tractament tèrmic. L'aliatge d'alumini millorat sense tractament tèrmic no pot millorar les propietats mecàniques mitjançant el tractament tèrmic, només es pot reforçar amb la deformació del processament en fred, principalment alumini d'alta puresa, alumini d'alta puresa industrial, alumini pur industrial i alumini quadrat antioxidació. L'aliatge d'alumini tractable tèrmicament es pot millorar mitjançant mètodes de tractament tèrmic com ara l'apagat i l'envelliment per millorar les propietats mecàniques, es pot dividir en alumini dur, alumini deformat, alumini súper dur i aliatge d'alumini especial.
L'aliatge d'alumini de fosa per composició química es pot dividir en aliatge d'alumini silici, alumini, coure, aliatges d'alumini i magnesi, aliatge d'alumini i zinc i aliatge d'alumini de terres rares, que es pot dividir en l'aliatge de silici hipereutèctic al-si, el silici eutèctic. aliatges, aliatge d'alumini de silici eutèctic, aliatge com a fosa, alguns aliatges d'alumini poden obtenir bones propietats mecàniques mitjançant tractament tèrmic, propietats físiques i resistència a la corrosió.
L'alumini refinat d'alta puresa 5N es forja escalfant moltes vegades, laminació en fred, mecanitzat CNC, objectiu d'aliatge d'alumini a causa del gra molt fi, sense impureses de metalls alcalins, el contingut d'oxigen és molt baix, adequat per a semiconductors de gamma alta i altres camps.
Hora de publicació: 12-jul-2022