La propera generació de grans telescopis requerirà miralls robusts, altament reflectants, uniformes i amb un diàmetre de base superior a 8 metres.
Tradicionalment, els recobriments evaporatius requereixen una àmplia cobertura de font i altes taxes de deposició per evaporar eficaçment els recobriments reflectants. A més, s'ha de tenir especial cura per evitar l'evaporació dels xamfers, que pot provocar el creixement d'estructures columnars i una reflectivitat reduïda.
El recobriment per pulverització és una tecnologia única que proporciona solucions adequades per a recobriments reflectants d'una sola i multicapa sobre substrats grans. La pulverització de llarga distància és un mètode de processament de semiconductors àmpliament utilitzat i proporciona una densitat i adhesió de recobriment més alta en comparació amb els recobriments polveritzats.
Aquesta tecnologia crea una cobertura uniforme al llarg de tota la curvatura del mirall i requereix un emmascarament mínim. No obstant això, la pulverització d'alumini de llarg abast encara no ha trobat una aplicació efectiva en telescopis grans. L'atomització de tir curt és una altra tecnologia que requereix capacitats d'equips avançats i màscares complexes per compensar la curvatura del mirall.
Aquest article demostra una sèrie d'experiments per avaluar l'efecte dels paràmetres de polvorització de llarg abast sobre la reflectivitat del mirall en comparació amb un mirall d'alumini de superfície frontal convencional.
Els resultats experimentals mostren que el control del vapor d'aigua és un factor important per crear recobriments de miralls d'alumini duradors i altament reflectants, i també mostren que la polvorització a llarga distància en condicions de baixa pressió d'aigua pot ser molt eficaç.
RSM (Rich Special Materials Co., LTD.) subministra tipus d'objectius de pulverització i barres d'aliatge
Hora de publicació: 28-set-2023