Els objectius de ceràmica tenen aplicacions àmplies en camps com ara semiconductors, pantalles, fotovoltaica i enregistrament magnètic. Les dianes de ceràmica d'òxid, les ceràmiques de siliciur, les dianes de ceràmica de nitrur, les dianes de ceràmica composta i les dianes de ceràmica de sulfur són tipus comuns d'objectius ceràmics. Entre ells, els objectius de ceràmica d'òxid tenen característiques com ara un punt de fusió elevat, un excel·lent aïllament i una resistència a la calor, el que els fa adequats per a objectius avançats de pulverització ceràmica i objectius ceràmics relacionats amb els semiconductors. Els objectius de ceràmica de siliciur tenen les característiques d'alta duresa i bona estabilitat química, el que els fa adequats per mostrar objectius ceràmics i objectius ceràmics relacionats amb semiconductors. Els objectius ceràmics de nitrur tenen les característiques d'alta duresa i bona estabilitat tèrmica, cosa que els fa adequats per mostrar objectius ceràmics i objectius ceràmics relacionats amb semiconductors. Els objectius de ceràmica de sulfur tenen una alta duresa i una bona estabilitat química, el que els fa adequats per mostrar objectius ceràmics i objectius ceràmics relacionats amb semiconductors.
Per tant, els objectius ceràmics tenen àmplies perspectives d'aplicació en camps com els semiconductors, les pantalles, la fotovoltaica i l'enregistrament magnètic.
Hora de publicació: 07-12-2023