Com tots sabem, hi ha moltes especificacions d'objectius de sputtering, i els seus camps d'aplicació també són molt amplis. Els tipus d'objectius que s'utilitzen habitualment en diferents camps també són diferents. Avui, anem a conèixer la classificació dels camps d'aplicació d'objectius de pulverització amb l'editor de RSM!
1、 Definició de l'objectiu de sputtering
La pulverització és una de les principals tecnologies per preparar materials de pel·lícula fina. Utilitza els ions produïts per la font d'ions per accelerar i reunir-se al buit per formar un feix d'ions d'alta velocitat, bombardejar la superfície sòlida i els ions intercanvien energia cinètica amb els àtoms de la superfície sòlida, de manera que els àtoms del sòlid. la superfície es separen del sòlid i es dipositen a la superfície del substrat. El sòlid bombardejat és la matèria primera per preparar la pel·lícula fina dipositada per sputtering, que s'anomena objectiu de sputtering.
2、 Classificació dels camps d'aplicació d'objectius de pulverització
1. Objectiu semiconductor
(1) Objectius comuns: els objectius comuns en aquest camp inclouen metalls d'alt punt de fusió com ara tàntal / coure / titani / alumini / or / níquel.
(2) Ús: s'utilitza principalment com a matèries primeres clau per a circuits integrats.
(3) Requisits de rendiment: alts requisits tècnics de puresa, mida, integració, etc.
2. Objectiu per a pantalla plana
(1) Objectius comuns: els objectius comuns en aquest camp inclouen alumini / coure / molibdè / níquel / niobi / silici / crom, etc.
(2) Ús: aquest tipus d'objectiu s'utilitza principalment per a diversos tipus de pel·lícules de gran superfície, com ara televisors i ordinadors portàtils.
(3) Requisits de rendiment: requisits elevats de puresa, gran superfície, uniformitat, etc.
3. Material objectiu per a la cèl·lula solar
(1) Objectius comuns: alumini / coure / molibdè / crom / ITO / Ta i altres objectius per a cèl·lules solars.
(2) Ús: s'utilitza principalment en "capa de finestra", capa de barrera, elèctrode i pel·lícula conductora.
(3) Requisits de rendiment: alts requisits tècnics i àmplia gamma d'aplicacions.
4. Objectiu per a l'emmagatzematge d'informació
(1) Objectius comuns: objectius comuns de cobalt / níquel / ferroaliatge / crom / tel·luri / seleni i altres materials per a l'emmagatzematge d'informació.
(2) Ús: aquest tipus de material objectiu s'utilitza principalment per al capçal magnètic, la capa mitjana i la capa inferior de la unitat òptica i el disc òptic.
(3) Requisits de rendiment: es requereix una alta densitat d'emmagatzematge i una alta velocitat de transmissió.
5. Objectiu de modificació d'eines
(1) Objectius comuns: objectius comuns com ara l'aliatge d'alumini de titani / zirconi / crom modificat per eines.
(2) Ús: normalment s'utilitza per a l'enfortiment de la superfície.
(3) Requisits de rendiment: requisits d'alt rendiment i llarga vida útil.
6. Objectius per a dispositius electrònics
(1) Objectius comuns: objectius comuns d'aliatge d'alumini / siliciur per a dispositius electrònics
(2) Propòsit: s'utilitza generalment per a resistències i condensadors de pel·lícula fina.
(3) Requisits de rendiment: mida petita, estabilitat, coeficient de temperatura de baixa resistència
Hora de publicació: 27-jul-2022