Benvinguts als nostres llocs web!

Objectiu de pulverització d'aliatge CrAlSi Revestiment de Pvd de pel·lícula fina d'alta puresa fet a mida

Crom Alumini Silici

Descripció breu:

Categoria

Objectiu de pulverització d'aliatges

Fórmula química

CrAlSi

Composició

Silici d'alumini cromat

Puresa

99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Plaques, objectius de columna, càtodes d'arc, fets a mida

Procés de producció

Fusió al buit, PM

Talla disponible

L≤1000mm, W≤200mm


Detall del producte

Etiquetes de producte

Descripció de l'objectiu de pulverització de silici d'alumini de croni

La fabricació d'objectius de pulverització de silici d'alumini de croni inclou els passos següents:
1.Fusió al buit de silici, alumini i croni per obtenir aliatges de pas.
2. Mòlta i barreja en pols.
3. Tractament de premsat isostàtic calent per obtenir l'objectiu de polverització d'aliatge de silici d'alumini crom.
Els objectius de pulverització de silici d'alumini de croni s'utilitzen àmpliament en eines de tall i motlles, a causa de la seva resistència al desgast i la seva resistència a l'oxidació a alta temperatura per millorar el rendiment de la pel·lícula.
Es formaria una fase Si3N4 amorfa durant el procés de PVD de dianes de CrAlSi. A causa de la incorporació de la fase amorfa Si3N4, es podria frenar el creixement de la mida del gra i millorar la propietat de resistència a l'oxidació a alta temperatura.

Embalatge objectiu de pulverització de silici d'alumini de croni

El nostre objectiu de pulverització de silici d'alumini de croni està clarament etiquetat i etiquetat externament per garantir una identificació eficient i un control de qualitat. Es té molta cura per evitar qualsevol dany que es pugui causar durant l'emmagatzematge o el transport

Aconsegueix contacte

Els objectius de pulverització de silici d'alumini de croni de RSM són de puresa ultra alta i uniformes. Estan disponibles en diferents formes, pureses, mides i preus. Ens especialitzem en la producció de materials de recobriment de pel·lícula prima d'alta puresa amb un rendiment excel·lent, així com la densitat més alta possible i les mides mitjanes de gra més petites possibles per al seu ús en recobriment de motlles, decoració, peces d'automòbils, vidre de baixa emissió, circuit integrat de semiconductors, pel·lícula fina. resistència, pantalla gràfica, aeroespacial, enregistrament magnètic, pantalla tàctil, bateria solar de pel·lícula fina i altres vapors físics aplicacions de deposició (PVD). Si us plau, envieu-nos una consulta sobre els preus actuals dels objectius de pols i altres materials de deposició que no figuren a la llista.


  • Anterior:
  • Següent: