Objectiu de pulverització d'aliatge CrAl Revestiment PVD de pel·lícula fina d'alta puresa fet a mida
Crom Alumini
La fabricació d'objectius de pols de crom alumini inclou els passos següents:
1. Mòlta i mescla de pols.
2. Tractament de premsat isostàtic en calent per obtenir productes semielaborats.
3. Mecanitzar el material objectiu de sputtering d'aliatge d'alumini de crom per obtenir el material objectiu de sputtering d'aliatge d'alumini de crom.
Durant el procés de deposició d'objectius de polverització de CrAl, es forma un recobriment dur d'alumini-crom-nitrur (AlCrN). Aquest recobriment mostra propietats d'alta duresa i resistència a l'oxidació fins i tot a altes temperatures. Les talladores podrien funcionar amb avanços elevats per augmentar la productivitat i augmentar la qualitat quan s'utilitzen màquines CNC.
Els nostres objectius típics d'AlCr i les seves propietats
| Cr-70Ala% | Cr-60Ala% | Cr-50Ala% | |
| Puresa (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Densitat（g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4,55 |
| Gpluja Mida(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Procés | HIP | HIP | HIP |
Rich Special Materials s'especialitza en la fabricació d'objectius de pulverització i pot produir materials de pulverització de crom d'alumini segons les especificacions dels clients. Els nostres productes presenten excel·lents propietats mecàniques, estructura homogènia, superfície polida sense segregacions, porus o esquerdes. Per a més informació, poseu-vos en contacte amb nosaltres.
Categories de productes
-
Objectiu de pulverització d'AlCu PV de pel·lícula fina d'alta puresa...
-
Objectiu de pulverització d'aliatge d'AlNi d'alta puresa F...
-
Objectiu de pulverització d'aliatge d'AlSiCu d'alta puresa...
-
AlZn Sputtering Objectiu PV de pel·lícula fina d'alta puresa...
-
AlSnCu Sputtering Objectiu de pel·lícula fina d'alta puresa...
-
Objectiu de pulverització d'aliatge d'AlNb d'alta puresa F...