উচ্চ বিশুদ্ধতা তামা লক্ষ্য প্রধান অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্র

কোন ক্ষেত্রে উচ্চ বিশুদ্ধতা তামা লক্ষ্যবস্তু প্রধানত ব্যবহৃত হয়? এই ইস্যুতে, RSM থেকে সম্পাদককে নিম্নোক্ত পয়েন্টগুলির মাধ্যমে উচ্চ বিশুদ্ধতা তামার লক্ষ্যের প্রয়োগ ক্ষেত্রটি চালু করতে দিন।

উচ্চ বিশুদ্ধতা তামার লক্ষ্যগুলি মূলত ইলেকট্রনিক্স এবং তথ্য শিল্পে ব্যবহৃত হয়, যেমন ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট, তথ্য স্টোরেজ, লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে, লেজার মেমরি, ইলেকট্রনিক কন্ট্রোল ডিভাইস ইত্যাদি। গ্লাস আবরণ ক্ষেত্রে ব্যবহার করা যেতে পারে; এটি পরিধান-প্রতিরোধী উপকরণ, উচ্চ তাপমাত্রা জারা প্রতিরোধের, উচ্চ-গ্রেড আলংকারিক পণ্য এবং অন্যান্য শিল্পে ব্যবহার করা যেতে পারে।

তথ্য সংরক্ষণ শিল্প: তথ্য ও কম্পিউটার প্রযুক্তির ক্রমাগত বিকাশের সাথে সাথে, আন্তর্জাতিক বাজারে রেকর্ডিং মিডিয়ার চাহিদা বাড়ছে এবং রেকর্ডিং মিডিয়ার জন্য সংশ্লিষ্ট লক্ষ্যবস্তুর বাজারও প্রসারিত হচ্ছে, এর সাথে সম্পর্কিত পণ্যগুলি হল হার্ড ডিস্ক, চৌম্বকীয় মাথা, অপটিক্যাল। ডিস্ক (CD-ROM, CD-R, DVD-R, ইত্যাদি), ম্যাগনেটো-অপটিক্যাল ফেজ পরিবর্তন অপটিক্যাল ডিস্ক (MO, CD-RW, DVD-RAM)।

ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট শিল্প: সেমিকন্ডাক্টর অ্যাপ্লিকেশনের ক্ষেত্রে, লক্ষ্য আন্তর্জাতিক লক্ষ্য বাজারের প্রধান উপাদানগুলির মধ্যে একটি, প্রধানত ইলেক্ট্রোড ইন্টারকানেক্ট ফিল্ম, ব্যারিয়ার ফিল্ম, কন্টাক্ট ফিল্ম, অপটিক্যাল ডিস্ক মাস্ক, ক্যাপাসিটর ইলেক্ট্রোড ফিল্ম, রেজিস্ট্যান্স ফিল্ম এবং অন্যান্য দিকগুলির জন্য ব্যবহৃত হয়। .

ফ্ল্যাট ডিসপ্লে ইন্ডাস্ট্রি: ফ্ল্যাট ডিসপ্লেতে লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে (এলসিডি), প্লাজমা ডিসপ্লে (পিডিপি) ইত্যাদি রয়েছে। বর্তমানে, লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে (LCD) ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে মার্কেটে আধিপত্য বিস্তার করে, যা বাজারের 85% এর বেশি। এটিকে সবচেয়ে প্রতিশ্রুতিশীল ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে ডিভাইস হিসাবে বিবেচনা করা হয়, যা ল্যাপটপ কম্পিউটার মনিটর, ডেস্কটপ কম্পিউটার মনিটর এবং হাই-ডেফিনিশন টেলিভিশনগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। এলসিডি উত্পাদন প্রক্রিয়া জটিল, যেখানে হ্রাস করা প্রতিফলিত স্তর, স্বচ্ছ ইলেক্ট্রোড, ইমিটার এবং ক্যাথোড স্পটারিং পদ্ধতি দ্বারা গঠিত হয়, তাই, এলসিডি শিল্পে, স্পাটারিং লক্ষ্য একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে।

উচ্চ বিশুদ্ধতা তামা লক্ষ্যবস্তু উপরোক্ত ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়, এবং উচ্চ এবং উচ্চতর প্রয়োজনীয়তা sputtering লক্ষ্য মানের জন্য এগিয়ে রাখা হয়.